U3/2[I].
Ускоряющее поле у эмитирующей поверхности понижает потенциальный барьер на ΔФ, как показано на рис. 4.9,б. Этот эффект получил название Шотки. Он приводит к тому, что с ростом положительного потенциала на коллекторе ток эмиссии не сохраняется постоянным Js, а несколько увеличивается (непрерывная кривая на рис. 4.9,а).
Расчёт показывает, что для полей не слишком высокой напряженности
ΔФ=[q3E/(4πξ0)]1/2 (4.42)
внешне ускоряющее поле вызывает не только понижение потенциального барьера, но и уменьшение его толщины d, что в полях высокой напряженности делает такой барьер достаточно прозрачным для туннелирования электронов и выхода их из твердого тела. Это явление называется холодной эмиссией электронов.
Плотность тока холодной эмиссии даётся соотношением:
j=CE2exp(-a/E) (4.46)
Где C и a – постоянные характеризующие форму потенциального барьера.
Пример 11. Термоэлектронная эмиссия.
Оксидные катоды, используемые промышленностью, при обычной для них температуре 750°C имеют эмиссию насыщения 5 A/см2. Вычислить дополнительный барьер для эмиссии, возникающий из-за образования пространственного разряда, если фактическая эмиссия из катода равна 0,1 А/см2.
Решение. Эмиссионный ток насыщения определяется формулой Ричардсона-Дешмена
Js=AT2exp(-Ф/kT).
Если существует внешнее электрическое поле, обусловленное пространственным разрядом, то ток эмиссии определяется формулой:
,
где ΔФ –дополнительные барьер эмиссии, причем
.
Подставляя численные значения, получим
4.5. ПОВЕРХНОСТНЫЕ ЯВЛЕНИЯ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ
Кристаллические поверхности можно рассматривать как обрыв кристаллической решетки, то есть дефект, который приводит к возникновению дискретных разрешенных уровней энергии (состояний) в запрещенной зоне полупроводника. Эти энергетические состояния получили название уровней Тамма. Соответствующие им волновые функции электронов имеют максимум на границе кристалла и быстро затухают по мере удаления от поверхности.
Аналогичные поверхностные состояния возникают также из-за адсорбции чужеродных атомов, образования окисных пленок на поверхности и других дефектов.
Величина заряда поверхности Qs определяется концентрацией поверхностных состояний Ns и взаимным расположением уровня Ферми и поверхностного уровня. В соответствии с принципом электронейтральности заряд Qs нейтрализуется путем отталкивания одноименных зарядов и притяжении зарядов противоположного знака из объёма полупроводника.
В результате чего при поверхностном слое образуется двойной электрический слой, экранирующий объём полупроводника от действия внешнего поля. Этот слой оказывается обеднён или обогащён основными носителями заряда в зависимости от знака Qs.
Кроме того, в приповерхностном слое концентрация носителей заряда и проводимость будут сильно отличаться от своих значений в глубине полупроводника. Всё это вызывает на зонной диаграмме изгиб зон, как показано на рис. 4.10.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.