51.Коротеев А.С., Костылев А.М. Генераторы низкотемпературной плазмы. –М.: Наука, 1969.
52.Корчагина М.Н., Савенков Н.В., Корчагин Б.В. Математическое моделирование рабочих характеристик магнетронной системы ионного распыления// Эл. техника. Сер. 1. 1986, вып. 1(385), с. 62-63.
53.Кузьмичев А.И. Импульсные магнетронные системы// ISTFE-14, Междунар. научно-техн. конф., Харьков,2001.
54.Лабунов В.А., Данилович Н.И., Уксусов А.С., Минайчев В.Е. Современные магнетронные распылительные устройства// Зарубежная эл. техника. 1982. Вып. 10, с. 3-62.
55.Лисовский В.А., Яковин С.Д. Осевая структура тлеющего разряда постоянного тока низкого давления в азоте. ICTVE-4, Междунар. научно-техн. конф., Харьков, 2001.
56.Майселл Л.И. Нанесение тонких пленок катодным распылением. – В кн.: Физика тонких пленок: В 8-и т. М.: Мир, 1968, т.3, с.58-127.
57.Мак-Даниэль И. Процессы столкновений в ионизованных газах. –М.: Мир, 1967. –832 с.
58.Меликов И.В. Расчет равновесных течений в плазменных ускорителях с замкнутым дрейфом электронов//ЖТФ. 1974. Т ХLIV, вып. 3, с 549-554.
59.Микроэлектродвигатели для систем автоматики: Технический справочник/ Под ред. Э.А.Лодочникова, Ф.М. Юферова. –М.: Энергия, 1969.
60.Минайчев В.Е. Магнетронные распылительные устройства (магратроны)// Обзоры по эл технике. Сер. Технология, орг-ция пр-ва и оборуд., 1979, вып.8, 56с.
61.Митчнер М., Кругер Ч. Частично ионизованные газы. –М.: Мир, 1976. –496 с.
62.Новичков Д.Н., Ермилов А.Н., Сафонов В.А. Экспериментальные исследования разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях с замкнутым холловским током// Прикладная физика, 2001, №4, с. 15-19.
63.ПархоменкоО.М., Халин В.И., Золотухина Ю.К. Экономическое проектирование цехов Учебное пособие. – Харьков: ХАИ, 1997,-120с.
64.Плазменно-ионные двигатели., учеб. пособие по курсовому и дипломному проектированию, Белан Н.В., Глибицкий М.М., Степанушкин Н.П., Харьков 1983 г.-62 с.
65.Плешивцев В.Н. Катодное распыление. – М.: Атомиздат, 1968.- 347 с.
66.Попов Ю.С. О двух разновидностях ускорителей плазмы с замкнутым дрейфом электронов// Теор. и эксперим. исслед. вопр. общ. физ. –1992.
67.Постоянные магниты: Справочник/ Альтман А.Б., Гербер А.Н., Гладышев П.А. и др.; под ред. Ю.М. Пятина. –2-е изд., перераб. и доп.–М.: Энергия, 1980.–488 с, ил.
68.Преображенский А.А., Бишард Е.Г. Магнитные материалы и элементы. –М.: – Высш. шк., 1986. – 352 с.: ил.
69.Розанов Л.Н. «Вакуумная техника». Учебник для вузов. – М. Высшая школа.1982.
70.Ройх И.Л., Колтунова Л.Н., Федосов С.Н. Нанесение защитных покрытий в вакууме. – М.: Машиностроение, 1976.
71.Саночкин Ю.В. Неустойчивость разряда низкого давления с замкнутым Холловским дрейфом// ЖТФ, 1975, т. 45, №3, с. 555-562.
72.Сейдман Л.А. Механизм роста пленок нитрида кремния при реактивном магнетронном распылении// Эл. техника. Сер. 2. Полупроводниковые приборы, 1985, вып. 5(178), с.44-47.
73.Сейдман Л.А. Получение пленок нитрида титана реактивным магнетронным распылением// Эл. техника. Сер. 2. Полупроводниковые приборы, 1985, вып. 5(178), с.44-47.
74.Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме/ А.И.Коржицкий, В.Ф.Карпов, М.П.Кабанченко и др. – М.: Машиностроение, 1991. –с.: ил.
75.Фролов Е.С., Минайчев В.В. Вакуумная техника. Справочник. – М.: Машиностроение, 1980.
76.Черепнин Н.В. Основы очистки, обезгаживания и откачки в вакуумной технике. – М.: Сов. Радио, 1967.
77.Чуменков В.П. К теории электрического разряда в сильном поперечном магнитном поле// ЖТФ. 1976. Т. 46. №6. 1253.
78.Шеркувене В.К.Ю., Янушонис С.С. Изменение геометрии поверхности в процессе травления// Эл. техника. Сер. 3. Микроэлектроника. 1976. Вып. 3(63), с. 64-72.
79.www.glass-coatings.narod.ru
80.www.glorient.ru
81.www.izovac.com
82.www.selmi.sumy.ua
83.www.teercoatings.co.ru
84.www.tsc.ru
85.www.vakuum.nm.ru
86.www.vimi.ru/applphys/
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.