Ввод для подвода електроэнергии и газовый ввод для подачи реагентного газа азота, которые подводятся к коллектору, закреплены на фланцах технологической установки.
Предварительная очистка изделий осуществляется при помощи источника плазмы. Источник выполнен на основе плазменного ускорителя с анодным слоем. Система предварительной очистки включает в себя один плазменно-ионный ускоритель указанного типа. Очистка производиться за счет бомбардировки поверхности подложки ускоренными атомами аргона. При бомбардировке происходит распыление слоя адсорбированных на поверхности изделия частиц, а также освобождение химических связей и активация поверхностного слоя подложки. Ускоритель с анодным слоем размещен в горловине технологической камере и крепится на фланце технологической камеры. Фланец, на котором закреплен источник плазмы, помимо электрических вводов имеет также вводы, предназначенные для подачи рабочего тела в анодный блок источника, а также в катоды компенсаторы.
Вакуумная система служит
для получения вакуума 
Па при проведении процесса напыления и состоит из вакуумной
камеры, высоковакуумного агрегата, форвакуумного насоса, соединенных
трубопроводом и необходимыми элементами вакуумного тракта.
Вакуумная камера представляет собой стальную (Х18Н10Т) цилиндрическую емкость объемом 0,551 м3, вертикально расположенную и закрепленную на металлической раме.
Высоковакуумный агрегат служит для получения высокого вакуума в камере. Высоковакуумный агрегат собран на базе турбомолекулярного насоса ТМН-5000.
Форвакуумный насос E2M18 посредством форвакуумной линии обеспечивают предварительное разряжение в вакуумной камере.
Предварительное разряжение обеспечивает приемлемые условия для запуска высоковакуумного агрегата. Дальнейшая откачка объема вакуумной камеры до низкого давления и его поддерживания в процессе напыления в вакууме осуществляется высоковакуумным агрегатом.
Линия форвакуумная представляет собой трубопровод, соединяющий механический форвакуумный насос с камерой и с агрегатом высоковакуумным.
На форвакуумной линии установлены четыре электромеханических клапана, два сильфона.
Комплекс измерительных приборов для измерения вакуума состоит из ионизационного и термопарного вакуумметров.
Сильфоны препятствует передаче вибрации, возникающей при работе механического форвакуумного насоса, остальным частям установки.
Потребителями энергии являются высоковакуумный агрегат, двигатель форвакуумного насоса, двигатель узла вращения, УАС и МРС.
В качестве источника питания высоковакуумного агрегата используется стандартный блок питания.
Питание цепи двигателя форвакуумного насоса, питание магнетронных распылительных систем, ускорителя с анодным слоем, двигателя узла вращения осуществляется с помощью системы электропитания.
Для охлаждения высоковакуумного агрегата, форвакуумного насоса, катодов МРС применяется система водяного охлаждения замкнутого цикла.
Агрегат высоковакуумный и магнетронные распылительные системы охлаждаются постоянно, как в режиме прогрева, так и в рабочем режиме.
Выбор и геометрия конструкции оснастки зависят от определенных задач, которые она должна решать. При проектировании возникла задача согласования расстояния от поверхностей обрабатываемых деталей до источников чистки и напыления. Оптимальное расстояние от поверхности изделий до источников – 50 мм. Наибольшая площадь обрабатываемой поверхности получается с использованием 4 барабанов оснастки с установленными на них изделиями. Так площадь трех барабанов радиусом 190 мм и высотой 460 мм составляет около 1,65 м2. Площадь четырех барабанов радиусом 160 мм и высотой 460 мм составляет около 1,84 м2. Величина радиуса в обоих случаях выбиралась из условия свободного перемещения и несоприкосновения изделий, установленных на оснастке, высота барабанов выбиралась из конструктивных соображений. Увеличение количества барабанов до пяти и более не приводит к значительному увеличению рабочей площади поверхности барабанов.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.