В пояснительной записке приведен расчет рабочих параметров технологического источника покрытия и ускорителя с анодным слоем, расчет на прочность крышки вакуумной камеры и надежность полученной толщины покрытия.
В технологической части – разработан технологический процесс подготовки поверхности изделий для нанесения защитно-декоративных покрытий на изделия широкого потребления, составлены маршрутные карты технологического процесса нанесения покрытия, в которых записана последовательность проведения операций технологического процесса, приведены рабочие параметры технологического материала покрытия и ускорителя с анодным слоем. Для реализации технологического процесса разработано ионно-плазменную технологическую установку, которая состоит из технологического отсека с необходимой оснасткой и оборудованием, вакуумной системы, системы хранения и подачи рабочих веществ для технологических источников, а также системы питания и управления всеми составляющими установки.
Большинство элементов, разработанных при выполнении работы, представлены на соответствующих чертежах.
В разделе “Безопасность жизнедеятельности” проанализировано влияние опасных и вредных факторов, что возникают во время работы на установке, предложены меры для их предотвращения, сделан расчет электрического заземления технологической установки.
В экономической части проведен расчет себестоимости нанесения покрытия на единицу продукции.
В специальной части рассмотрен тепловой режим изделия при нанесении покрытия с помощью магнетронных распылительных систем. Проведен обзор литературы по теме работы, проведен анализ материалов обзора, на основании собранных материалов, определены необходимые зависимости параметров для создания алгоритма методики оценки теплового режима подложки. Разработан алгоритм определения параметров, необходимых для оценки теплового режима изделия при нанесении покрытия с помощью магнетронных распылительных систем, а также создано программное обеспечение реализации разработанной методики.
ПЛАНАРНАЯ МАГНЕТРОННАЯ РАСПЫЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА, ВАКУУМНАЯ СИСТЕМА, УСКОРИТЕЛЬ С АНОДНЫМ СЛОЕМ, ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ПРОЦЕСС НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ, ЭНЕРГИЯ, ПОДЛОЖКА, АНОД-КОЛЛЕКТОР, КАТОД-КОМПЕНСАТОР
The abstract
Explanatory note: pages 139 , figures , tables , appendices , sources .
Object of designing - ion-plasma technological installation for drawing decorative and protective coverings on the wide use ware. The given IPTD is unique, because we can provide coverings on the metal, plastic and glass wares that have the varies shape and dimensions.
Assignment of installation - drawing of a decorative covering on the wide use wares.
Sphere of use - manufacture of products of wide consumption.
The design part of diploma deals with designing of ion-plasma technological device vacuum system, the pumps were chosen for ensuring the necessary vacuum when the installation is switched on, also, the necessary elements were chosen for creation the system. The technological sources were chosen for realization of technological process. The magnetron sputtering system was chosen as the main material source. The accelerator with the anode layer was chosen for realization of part surface preparation process. The design of technological sources and choice of material was worked out.
The complex of the calculations and design definition were worked out for the specified sources.
The calculation of the technological sources working parameters presented in the explanatory note. The calculation of reliability obtained thickness of a covering, calculation on durability of cover in the the vacuum chamberwas worked out too.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.