Ионно-плазменная технологическая установка для нанесения защитно декоративного покрытия на изделия широкого потребления, страница 2

Призначення установки: нанесення захисно-декоративного покриття на вироби загального вжитку.

Сфера використання: виробництво виробів широкого використання.

В конструкторській частині дипломного проекту проведено проектування вакуумної системи іонно-плазмової технологічної установки, виконано вибір насосів, які забезпечують необхідний вакуум для роботи технологічної установки проведено підбір необхідних елементів для створення системи. Для реалізації технологічного процессу проведено вибір технологічних джерел. В якості технологічного джерела матеріалу покриття вибрано магнетронну розпилюючу систему. Для проведення процесу підготовки поверхні виробу перед нанесенням покриття вибрано прискорювач з анодним шаром. Розроблено конструкції технологічних джерел, виконано вибір їх матеріалів.

В пояснювальній записці приведено розрахунок робочіх параметрів технологічного джерела покриття та прискорювача з анодним шаром, розрахунок на міцність кришки вакуумної камери та надійності товщини полученого покриття.

В технологічній частині – розроблено технологічний процес підготовки поверхності виробів для нанесення захисно-декоративного покриття на вироби широкого вжитку, складено маршрутні карти технологічного процесу нанесення покриття, в яких записано послідовність проведення операцій технологічного процессу, приведено робочі параметри технологічного джерела матеріалу покриття та прискорювача з анодним шаром. Для реализації технологічного процесу розроблено іонно-плазмову технологічну установку, що складається з технологічного відсіку з необхідним обладнанням і устаткуванням, вакуумної системи, систему зберігання та витрат робочих речовин для технологічних джерел, а також систем живлення і керування всіма компонентами установки.

Більшість елементів розроблених при виконанні роботи представлено на відповідних кресленнях.

У розділі безпека життєдіяльності проаналізовано вплив небезпечних та шкідливих факторів, що виникають під час роботи на установці, запропоновано заходи щодо їх усунення, виконано розрахунок електричного заземлення технологічної установки.

В економічній частині проведено розрахунок собівартості нанесення покриття на одиниці продукції.

В спеціальній частині розглянуто тепловий режим виробу при нанесенні покриття за допомогою магнетронних розпилюючих систем. Проведено огляд літератури по темі роботи, проведено аналіз матеріалів огляду, на основі зібраних матеріалів, визначено необхідні залежності параметрів для створення алгоритму методики оцінки теплового режиму підкладки. Розроблено алгоритм визначення параметрів, необхідних для оцінки теплового режиму виробу при нанесенні покриття за допомогою магнетронних розпилюючих систем, а також створено програмне забезпечення для реалізації розробленої методики.

ПЛАНАРНА МАГНЕТРОННА РОЗПИЛЮЮЧА СИСТЕМА, ВАКУУМНА СИСТЕМА, ПРИСКОРЮВАЧ З АНОДНИМ ШАРОМ, ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ПРОЦЕС НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТЯ, ЕНЕРГІЯ, ПРОЦЕС НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТЯ, ОСНОВА-ПІДКЛАДКА, АНОД-КОЛЕКТОР,КАТОД-КОМПЕНСАТОР.

Реферат

Пояснительная записка: страниц 97, рисунков , таблиц , приложений 3, источников 47.

Целью работы является разработка ионно-плазменной технологической установки для нанесения защитно-декоративных покрытий на изделия широкого потребления. Данная технологическая установка универсальная, потому что в ней можно напылять изделия, изготовленные из металла, пластмассы и стекла различных размеров.

Назначение установки: нанесения защитно-декоративных покрытий на изделия широкого потребления.

Сфера использования: производство изделий широкого потребления.

В конструкторской части дипломного проекта проведено проектирование вакуумной системы ионно-плазменной технологической установки, сделан выбор насосов, которые обеспечивают необходимый вакуум для работы технологической установки, проведен подбор необходимых элементов для создания системы. Для реализации технологического процесса проведен выбор технологических источников. В качестве технологического источника материала покрытия была выбрана магнетронная распылительная система. Для проведения процесса подготовки поверхности изделия перед нанесением покрытия был выбран ускоритель с анодным слоем. Разработаны конструкции технологических источников, сделан выбор их материалов.