Для определения
коллекторного тока в режиме насыщения используем эквивалентную схему
коллекторной цепи (рис.2.6б) при , откуда:
. (2.7)
Во многих случаях можно считать , тогда
.
Рис. 2.6
Для
определения создаваемого генератором в схеме рис.2.2
базового тока составим эквивалентную схему рис.2.6а, используя апроксимацию
характеристики открытого базо-эмиттерного перехода (рис.2.3) ступенчатой
функцией с напряжением
. Тогда
. (2.8)
Это выражение представляет
управляющее воздействие как модель генератора тока, не зависящего от напряжения
. Погрешность такой апроксимации невелика и
обсуждалась в 2.1.1.
Теперь можно определить минимально необходимый базовый ток для обеспечения режима насыщения. На границе перехода транзистора из активного режима в насыщение (рис.2.5) ещё действует формула:
. (2.9)
Сравнение величин (2.8) и (2.9) определяет условие нахождения транзистора в насыщении:
. (2.10)
Сила неравенства
(2.10) определяет важный физический параметр транзисторного ключа, называемый
глубиной насыщения и влияющий на показатели
скорости переключения:
. (2.11)
Величина разности в (2.11) определяет величину тока помехи
запирающей полярности, при которой транзистор выходит на границу насыщения.
Дальнейшее уменьшение тока переводит транзистор в активный режим.
Помехоустойчивость ключа в состоянии насыщения определяется максимальной
величиной тока (напряжения) помехи, при которой это допустимо.
2.2 Динамические свойства биполярных транзисторов
Динамические
свойства электронных ключей проявляются при переходе транзистора из отсечки в
насыщение и обратно. Этот процесс происходит при нахождении транзистора в
линейном режиме и изменении его коллекторного тока от состояния отсечки () до насыщения (
).
Длительность переходного процесса определяется инерционными элементами
транзистора и схемы ключа. В эквивалентной схеме транзистора, используемой при
анализе линейных схем [ ], в качестве моделей инерционности используют
диффузионную ёмкость
и ёмкость коллекторно-базового
перехода
. Свойства схемы ключа, определяемые
уровнем используемой технологии, обычно моделируются паразитной ёмкостью
монтажа (ёмкостью нагрузки)
. Для выяснения роли
каждой ёмкости рассмотрим их действие порознь. Возможность и способ объединения
результатов раздельного анализа будут рассмотрены позже.
2.2.1 Переходный процесс, определяемый током диффузии
В биполярных
транзисторах протекание тока от эмиттера к коллектору происходит как процесс
диффузии неосновных носителей за счёт неравномерной плотности их распределения
вдоль базы [ ]. Ток диффузии пропорционален градиенту
плотности зарядов
и скорости диффузии
(свойству материала базы):
.
Интегрируя распределение зарядов
вдоль базы, определим, что величины диффузионного тока (постоянного
вдоль базы) и суммарного заряда в базе
связаны
пропорциональной зависимостью:
. (2.12)
Здесь Б = К-Э – толщина базы, - скорость диффузии, а
- время диффузии носителей от эмиттера
до коллектора, основной показатель быстродействия дифузионного процесса. . Оба
показателя, влияющие на величину
, определяются
технологией изготовления транзистора: минимально реализуемой толщиной базы и
скоростью диффузии, зависящей от материала базы и использования его легирования.
В режиме
отсечки и
. При ступенчатом напряжении
управляющий ток схемы ключа на рис.2.2
согласно (2.7) изменяется скачком:
. Тогда заряд в базе
при
начинает накапливаться по линейному
закону:
(2.13)
и согласно с (2.12) коллекторный ток увеличивается со скоростью:
. (2.14)
При этом рекомбинация неосновных носителей в базе определяет появление базового тока, пропорционального накопленному заряду:
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.