Для определения коллекторного тока в режиме насыщения используем эквивалентную схему коллекторной цепи (рис.2.6б) при , откуда:
. (2.7)
Во многих случаях можно считать , тогда .
Рис. 2.6
Для определения создаваемого генератором в схеме рис.2.2 базового тока составим эквивалентную схему рис.2.6а, используя апроксимацию характеристики открытого базо-эмиттерного перехода (рис.2.3) ступенчатой функцией с напряжением . Тогда
. (2.8)
Это выражение представляет управляющее воздействие как модель генератора тока, не зависящего от напряжения . Погрешность такой апроксимации невелика и обсуждалась в 2.1.1.
Теперь можно определить минимально необходимый базовый ток для обеспечения режима насыщения. На границе перехода транзистора из активного режима в насыщение (рис.2.5) ещё действует формула:
. (2.9)
Сравнение величин (2.8) и (2.9) определяет условие нахождения транзистора в насыщении:
. (2.10)
Сила неравенства (2.10) определяет важный физический параметр транзисторного ключа, называемый глубиной насыщения и влияющий на показатели скорости переключения:
. (2.11)
Величина разности в (2.11) определяет величину тока помехи запирающей полярности, при которой транзистор выходит на границу насыщения. Дальнейшее уменьшение тока переводит транзистор в активный режим. Помехоустойчивость ключа в состоянии насыщения определяется максимальной величиной тока (напряжения) помехи, при которой это допустимо.
2.2 Динамические свойства биполярных транзисторов
Динамические свойства электронных ключей проявляются при переходе транзистора из отсечки в насыщение и обратно. Этот процесс происходит при нахождении транзистора в линейном режиме и изменении его коллекторного тока от состояния отсечки () до насыщения (). Длительность переходного процесса определяется инерционными элементами транзистора и схемы ключа. В эквивалентной схеме транзистора, используемой при анализе линейных схем [ ], в качестве моделей инерционности используют диффузионную ёмкость и ёмкость коллекторно-базового перехода . Свойства схемы ключа, определяемые уровнем используемой технологии, обычно моделируются паразитной ёмкостью монтажа (ёмкостью нагрузки) . Для выяснения роли каждой ёмкости рассмотрим их действие порознь. Возможность и способ объединения результатов раздельного анализа будут рассмотрены позже.
2.2.1 Переходный процесс, определяемый током диффузии
В биполярных транзисторах протекание тока от эмиттера к коллектору происходит как процесс диффузии неосновных носителей за счёт неравномерной плотности их распределения вдоль базы [ ]. Ток диффузии пропорционален градиенту плотности зарядов и скорости диффузии (свойству материала базы):
.
Интегрируя распределение зарядов вдоль базы, определим, что величины диффузионного тока (постоянного вдоль базы) и суммарного заряда в базе связаны пропорциональной зависимостью:
. (2.12)
Здесь Б = К-Э – толщина базы, - скорость диффузии, а - время диффузии носителей от эмиттера до коллектора, основной показатель быстродействия дифузионного процесса. . Оба показателя, влияющие на величину , определяются технологией изготовления транзистора: минимально реализуемой толщиной базы и скоростью диффузии, зависящей от материала базы и использования его легирования.
В режиме отсечки и . При ступенчатом напряжении управляющий ток схемы ключа на рис.2.2 согласно (2.7) изменяется скачком: . Тогда заряд в базе при начинает накапливаться по линейному закону:
(2.13)
и согласно с (2.12) коллекторный ток увеличивается со скоростью:
. (2.14)
При этом рекомбинация неосновных носителей в базе определяет появление базового тока, пропорционального накопленному заряду:
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.