Обнаружено, что при уменьшении тока с острия до
некоторого предела и значительном расширении катодного факела его плазма
перестает продвигаться к аноду. Очевидно, что необходимым условием остановки
катодной плазмы является установление
равенства между пропускной способностью промежутка, возрастающей по мере
расширения факела, и эмиссионной способностью плазмы, которая снижается при
уменьшении плотности плазмы. Схема ПИЭЛ, который обеспечивает релятивистский
пучок длительностью в несколько микросекунд, приведена на рис. 56.
Многоострийный катод диода имеет площадь 200 см
2, расстояние между
катодом и анодом из алюминиевой фольги толщиной 70 мкм составляет 7—26 см. При
таких расстояниях и соответствующем изменении амплитуды напряжения в пределах
0,4—1,5 MB ток электронов на коллектор составлял 5—2 кА с
длительностью 4∙10
-8 с. Фотографии картины свечения в промежутке
показывают, что при напряжении 1 MB и токе с острия менее 100 А плазма распространяется не
более чем на 5 см. В отличие от режима коротких импульсов (3∙10
-8 с)
при значительных
длительностях в пучке появляются нерегулярности,
которые, как предполагается в работе, вызываются взаимодействием отдельных
катодных факелов.
19. ПЛАЗМЕННЫЕ ЭЛЕКТРОННЫЕ ИСТОЧНИКИ С НЕЗАВЕРШЕННЫМ РАЗРЯДОМ ПО
ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИКА В ВАКУУМЕ
К перспективным ПИЭЛ со взрывной эмиссией, в которых
возбуждение плотной плазмы не зависит от ускоряющего напряжения, относятся
источники с незавершенным разрядом по поверхности диэлектрика в вакууме (рис.
57). Основным элементом ПИЭЛ является диск
2 из титаната бария (BaTiO
3). С одной стороны к диску прижата металлическая игла
3
или сетка, а на другую сторону нанесен контактный слой серебра
1. Разряд
возникает между слоем и иглой при подаче импульсного напряжения
Up, превышающего
некоторое пороговое значение. Благодаря высокой диэлектрической проницаемости BaTiO
3 (ε>10
3) напряжение зажигания разряда может
составлять несколько сот вольт. В работе [128] показано, что при отрицательном
острие разряд возникает при испарении диэлектрика под действием бомбардировки
электронами, эмиттированными острием за счет автоэмиссии. Увеличение при этом
тока приводит к взрыву острия. Плазма разряда создается в парах разрушенного
поверхностного слоя диэлектрика.
После зажигания разряда плазма
распространяется по поверхности диэлектрика со скоростью υd, которая
при толщине диэлектрика δ≫υdτu выражается как υd=AUр, где А=4,9 м/(В∙с) при положительной полярности
иглы относительно контактного слоя и А=21 м/(В∙с) при отрицательной
полярности. Одновременно с движением плазмы по диэлектрику происходит ее
распространение в промежутке перпендикулярно поверхности диэлектрика со
скоростью 2∙104 м/с. Расширяющаяся плазма является эффективным
эмиттером электронов, которые извлекаются и ускоряются с помощью положительного
относительно иглы электрода 4. Начало эмиссии с точностью до 10-9
с совпадает с возникновением плазмы у острия 3. Извлеченный из плазмы ток
возрастает с увеличением напряжения Up, что объясняется увеличением поверхности плазмы,
эмиттирующей электроны.
Использование в ПИЭЛ вместо прижатого к
диэлектрику острия мелкоструктурной сетки позволяет одновременно создать
большое количество эмигрирующих центров за счет разрядов по поверхности
диэлектрика в точках касания его сеткой и разрядов между сеткой и диэлектриком
там, где касание отсутствует. При этом шунтирование отдельных разрядов
предотвращается из-за замыкания тока каждого разряда токами смещения через
емкость диэлектрика. В результате независимого действия отдельных разрядов
возможно образование в течение малого времени порядка 10-9 с большой
эмиттирующей плазменной поверхности. При напряжении 50 кВ в ПИЭЛ с покрытым
молибденовой сеткой катодом площадью 13,6 см2 и межэлектродным
расстоянием 14 мм получен электронный ток 2∙103 А.