Клубович с коллегами [11]использовали динамику и структуру плазменного потока, получаемого с помощью таких источников плазмы.Они установили, что одним из результатов воздействия потока на поверхность подло-жки является выделение тепла. при регулировании частоты поворота импульсов разряда или термостабилизации подложки не устраняется локальный кратков-ременный разогрев поверхности конденсации.
В эксперименте использовались источники плазмы с катодом из графита диаметром 30мм. Формирование и ускорение потока осуществлялось в собственном и внешнем магнитном поле. Ток разряда составлял 1-3- кА при величине поля 100-300 Э. Величина средней энергии ионов рассчитывалась по времени пролета сгустка между двумя зондами.Было установлено, что энергия составляла 10-85 эВ при изменении напряжения от 200 до500 В, что удовлетворительно коррелирует с дан-ными Маслова, причем максимальная энергия ионов достигалась на расстоянии 265 мм от катода.
В близи от анода источника плазмы формировался сгусток общей дли-тельностью 350-400 мкс. длительность сгустка более чем 2 раза превышала дли-тельность горения разряда (125-150 мкс ), а сигнал тока насыщения на зонд в оптической тени следует с задержкой относительно лидирующего потока.
2 - электрод поджига ; 6 – зонд ;
3 - анод ; 7 – термопара ;
4 - cоленоид ; 8 – маятник ;
БП-блок поджига ;
В- выпрямитель ;
Н- накопитель ;
ИЕП- индуктивно-емкосной преобразователь .
Рисунок 7- Схема установки с импульсным катодно-дуговым источником плазмы.
Разряд характеризовался двумя максимумами потока насыщения при 25-50 мкс и 300-350 мкс. В периферийной части потока формировалась тонкая структура из пакета сгустков по 20 мкс, следующих через 75 мкс, что свидетельствует о периодичности в структуре потока. Эти особенности были связаны только с внешним магнитным полем и объяснялись взаимодействием плазмы с полем, при зеркальном отражении плазмы от возрастающего поля.
Это выполняется с ростом начального напряжения разряда, причем возра-стает и ток разряда Ip и напряженность поля Н, Н =Ip/2R, где R –расстояние от анода до катода. При малых начальных напряжениях магнитное поле проникало в плазму, и замагниченный поток плазмы без зеркального отражения проходит через канал, представляя собой непрерывное образование.Максимальная плотность потока в виде сгустков при напряжении > 300 В наблюдалось по оси. Однако, ав-торы не сделали практических выводов о том, как эти особенности плазмы будут влиять на структуру и свойства формируемых пленок.
Основная цель нашей работы заключается в исследовании адгезионной прочности алмазоподобных покрытий с подслоем титана.
1.2 Методика измерения механических свойств
Актуальность проблемы исследования и контроля механических свойств материалов, таких как микротвердость, адгезионная прочность, модуль упругости, у поверхности и в поверхностных слоях обусловлено тем, что с контактным воздействием и контактной деформацией связаны не только служебные свойства материалов в условиях трения, усталости, схватывания, износа, но и почти все методы обработки и упрочнения.
1.2.1 Определение модуля упругости
Известно несколько методов определения модуля упругости при вдавли-вании , основанных ан решении задачи Герца об упругом вдавливании шара в полупространство. Возможно изменение упругого сближения или диаметра площади контакта. оба способа трудоемки и не позволяют определить одновременно модуль упругости и твердость.
При определении модуля упругости [12]Е.М.Резенберг исходил из того, что характер распределения давления по поверхности контакта оказывает неболь-шое влияние на упругую деформацию. В центре контакта при любом законе распределения ассимметричного давления наблюдается упругое сближение.
,
( 1 )
где m- показатель распределения давления по площади конткта ;
du- диаметр площади упругого контакта ;
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.