Технический прогресс в технологии осушки природного газа, страница 21

Количес-	Расход ТЭГа,	Содержание сероводорода		Извлечение
тво газа,	кг/ч	в газе, мг/м3		ft^S ,% вес.
М3/Ч		вход       |	выход
1920	62	27,9	22,1	20,8
1950	69	38,2	27,4	28,3
1950	60	24,2	20,3	16,1
2160	65	31,6	25,0	29,9
2530	66	35,0	25,0	27,7
2700	58	30,6	24,9	18,6

Двухступенчатаясхемаосушкииочистки природногогаза

В работе  [_I6J  описан процесс,  обеспечивающий осушку и очист­ку природного газа по двухколонной схеме.

Процесс обработки газовой смеси с целью удаления влаги и кис­лых компонентов состоит в следующем: газ, подлежащий обработке, контактирует с первым абсорбентом, в результате контакта абсорбент частично испаряется. Затем газ контактирует со вторым абсорбентом, точка кипения которого выше точки кипения первого абсорбента. При этом поглощается влага и пары первого абсорбента.

Для регенерации насыщенный первый абсорбент пропускается че­рез первую зону нагрева. Второй насыщенный абсорбент пропускается через вторую зону нагрева, при этом он восстанавливается, благода­ря испарению из него влаги и легких фракций первого абсорбента.

Десорбат поступает в первую зону нагрева, где восстанавлива­ется первый абсорбент. Газы десорбции заново контактируют с реге­нерированным первым и вторым абсорбентами.

Одной из основных целей экспериментов, приведенных в работе [16]  было улавливание летучих аминов, которые уносятся потоком газа.

В принципе осушка и извлечение кислых компонентов могли бы осуществляться одновременно, для этого аминогликоль и вода должны объединяться в один раствор. В этом случае для уменьшения потерь амина требуется состав с меньшим содержанием амина, а это приводит к снижению степени извлечения кислых компонентов. Для поддержания необходимой глубины извлечения С0£ и Н2S  следует увеличивать удельный расход комбинированного раствора, а это ухудшает энергети­ческие показатели установки и увеличивает металлозатраты.

Процесс протекает по следующей схеме (рис.20).

Исходный газ, содержащий влагу, двуокись углерода и сероводо­род, по линии I подается в низ абсорбера K-I.  Абсорбер K-I состоит из двух контактных зон, которые отделяются спускной (глухой) тарел­кой.  Через эту тарелку газ,  освобожденный от кислых компонентов, идет в верхнюю контактную ступень,  а жидкий абсорбент, подаваемый в верхнюю часть по линии ?., выходит с глухой тарелки по линии 3. Поступающий в нижнюю секцию абсорбера газ контактируется с раство­ром амина, подаваемым по линии 4.

Рис.20.Технологическая схема двухколонной схемы осушки и очистки газа:

К_1 _ абсорбер; К-2 и К-3 - первичная и вторичная отпарные колон­ны: E-I - еыкость; Т-1, Т-2 - теплообменники;   R -I - рибойлер; Н-1,- Н-2, Н-3 - насосы

Абсорбент состоит из 30-40 весовых частей амина, 20-30 частей гликоля и воды.

В нижней части абсорбера поглощаются кислые компоненты и час­тично вода.

Газ, вместе с уносимым амином, проходит глухую тарелку и по­ступает в верхнюю секцию абсорбера, где производится осушка газа раствором ДЭГа и поглощение уносимых паров амина. Сухой газ отво -дится из абсорбера по линии 5.

Насыщенный раствор амина по линии б через теплообменники Т-1 и Т-2 подается в отпарную колонну К-2 для регенерации. Колонна К-2 снабжена рибойлером, в котором раствор нагревается и регенерирует­ся. Продукты отпарки (кислые компоненты и влага) по линии 7 отво -дятся из колонны.

Собранная в емкости E-I жидкая фаза насосом по линии 8 подает48

ся на верх колонны К-2.  Регенерированный раствор амина с низа ко­лонны К-2 по линии 4 подается в абсорбер K-I.

Использованный гликолевый раствор выходит с низа верхней с<л-ции абсорбера и идет через вторичную отпарную колонну К-3, сло­женную паровым змеевиком. Колонна К-3 работает при рь.гмме,  обеспе­чивающем испарение влаги и паров амина из гликолевого  , лгавор»: ;;о заданной степени.