Рабочая программа, методические указания и контрольные задания по курсу "Твердотельная электроника", страница 13

                                                               l0 = 2εεq0ϕк ⋅ NNаа+⋅ NNдд , где ε -относительная диэлектрическая проницаемость полупроводника; ε0 = 8,85⋅1012Ф/м - абсолютная диэлектрическая проницаемость вакуума.

Относительная диэлектрическая проницаемость кремния ε=12, германия - ε=16. Если концентрация примесей в одной области p-n-перехода много меньше, чем в другой, то выражение для ширины несимметричного p-n-перехода упрощается. Например, в случае если Nд << Nа , имеем

l0 ≈ 2εεqN0ϕдк .

Если p-n-переход смещен в прямом направлении внешним напряжением U, то потенциальный барьер уменьшается и становится равным U′ =ϕк U . Ширина p-n-перехода уменьшается и становится равной

                                                       l0 = 2εε0(ϕqк −U)⋅ NNаа+⋅ NNдд .

При смещении p-n-перехода в обратном направлении высота потенциального барьера возрастает до величины U′′ =ϕк + U , а его ширина увеличивается l0 = 2εε0(ϕqк +U)⋅ NNаа+⋅ NNдд

Ширина p-n-перехода ln и lp в n- и p-областях соответственно связана с концентрациями примесей зависимостью llnp = NNад .

В первом приближении считают, что напряженность контактного диффузионного поля максимальна на металлургическом контакте и линейно спадает к границам перехода. Максимальное значение напряженности поля в равновесном переходе находится из выражения Emax = ln2ϕ+кlp = 2ϕl к .

В случае если переход смещен внешним напряжением, в последнее выражение необходимо подставлять новые значения высоты потенциального барьера и ширины p-n-перехода.

Удельное сопротивление ρp и ρn p- и n-полупроводников связано с концентрациями соответствующих примесей зависимостями

ρp Nа ⋅1q⋅µp ,       ρn Nд ⋅1q⋅µn

где µp и µn - подвижности дырок и электронов. Для германия µp = =0,19 м2 (В с), µn = 0,39 м2(В с), а для кремния µp = 0,05 м2(Вс), µn = 0,14 м2 (В с).

Примеры решения задач к заданию 1

Пример 1. Имеется германиевый p-n-переход с концентрацией примесей Nд = 103Nа , причем на каждые 108атомов германия приходится один атом акцепторной примеси. Определить контактную разность потенциалов при температуре Т =300 К. Концентрация атомов германия N =4,4⋅1022 см -3; собственная концентрация носителей ni =2,5⋅1013см -3

Решение

            Концентрация                                атомов                        акцепторов

Nа = N108 = 4,4⋅1022 108 = 4,4⋅1014 см -3. Концентрация атомов доноров Nд =103 Nа =103 ⋅4,4⋅1014 = 4,4⋅1017см -3. При Т =300 К все атомы примеси ионизированы, поэтому контактная разность потенциалов ϕк = kTq ⋅ln Nдni2Nа  = 0,025⋅ln 4,4(102,517⋅10413,4)21014  = 0,326В . 

Пример 2. Удельное сопротивление p-области германиевого p-nперехода ρp = 2 Омсм, а удельное сопротивление n-области ρn = 1

Омсм. Вычислить высоту потенциального барьера p-n-перехода при Т=300 К.

Для германия при Т = 300 К подвижность дырок µp = 1800 см2(В⋅с); подвижность электронов µn= 3800 см2(В⋅с); равновесная концентрация носителей заряда ni =2,5⋅1013см-3.

Решение

 Удельное сопротивление p-области полупроводника ρp =1(Nа qµp ). Отсюда найдем концентрацию акцепторов в pобласти:

Nа = ρp ⋅1q ⋅µp = 2⋅1,6⋅101−19 ⋅1800 =1,74⋅1015 см -3 .

Аналогично найдем концентрацию доноров в n-области полупроводника:

Nд 1,64⋅1015см -3 .

Считая примеси ионизированными, найдем высоту потенциального барьера p-n-перехода:

q⋅ϕк = k T ⋅ln Nдni2Nа  = 0,025⋅ln1,74⋅(102,515⋅10⋅113,64)2⋅1015  = 0,217 эВ. 

Пример 3. В структуре с кремниевым p-n-переходом удельная проводимость p-области σp = 104 См /ми удельная проводимость n-области σn=102 См /м. Вычислить контактную разность потенциалов в переходе при Т =300 К.

Для кремния при Т =300 К: подвижность дырок µp = 500 см2(В⋅с); подвижность электронов µn =1400 см2(В⋅с); равновесная концентрация носителей ni =1,4⋅1010см -3.

Решение

Для полупроводника       p-типа σp = pp qµp. Отсюда найдем концентрацию дырок: pp p (q⋅µp)=104(1,6⋅1019 ⋅0,05)=1,25⋅1024 м-3 . Аналогично найдем концентрацию электронов в n-области: