Решение:
где U – приложенное напряжение, Nд – концентрация примесей в высокоомном слое (базе). При напряжении Uкб = 30 В можно пренебречь контактной разностью потенциалов и тогда увеличение ширины перехода будет равняться ширине базы (до прокола базы). Тогда
59. У кремниевого сплавного p-n-p транзистора ширина базы w = 1 мкм, удельное сопротивление базы rб = 5*10-3 Ом*м, удельное сопротивление коллектора значительно меньше. Вычислить напряжение прокола базы.
60. Сплавной транзистор типа p-n-p включен в схему, изображенную на рисунке:
Определить коллекторный ток, если известно, что коэффициент передачи тока эмиттера a = 0,98; обратный ток коллекторного перехода Iкб0 = 10 мкА (при разомкнутом выводе эмиттера).
Решение:
Воспользуемся известным соотношением для токов транзистора в активном режиме
Поскольку цепь базы разорвана, то Iк = Iэ. Следовательно
Этот ток обозначается символом Iкэ0 и называется обратным током коллектор – эмиттер при разомкнутом выводе базы.
Подставляя числовые значения, получим:
Этот ток в (1+b) раз больше обратного тока коллектора Iкб0 (при разомкнутом выводе эмиттера). Большое значение тока Iкэ0 снижает устойчивость работы транзистора в схеме с ОЭ и может привести к тепловому пробою. Поэтому при эксплуатации транзисторов не допускается отключение и разрыв цепи базы при наличии напряжения на других электродах.
Кроме того, здесь дан простой и точный способ измерения коэффициента передачи тока эмиттера a. Сначала надо измерить ток коллекторного перехода Iкб0 (включая батарею между коллектором и базой так, чтобы коллекторный переход был смещен в обратном направлении), а затем измерить коллекторный ток Iкэ0, как показано на рисунке. Величина
61. В транзисторе, включенном по схеме с общим эмиттером, ток коллектора Iк = 1 мА, ток базы Iб = 20 мкА, обратный ток коллектора Iкб0 = 10-8 А. Определить коэффициенты передачи по постоянному току a, b и обратный ток коллектора Iкэ0.
62. Пользуясь схемой замещения Эберса- Молла для транзистора, включенного по схеме ОБ установить зависимость между собственными параметрами и параметрами системы h.
Решение:
Преобразуем исходную модель для исходного сигнала
в схему для режима короткого замыкания на входе, так как параметры
и определяется при
Приложение
Параметры полупроводниковых материалов
Параметр |
Ge |
Si |
GaAs |
Плотность, кг/м3 Атомная масса Плотность атомов, м-3 Диэлектрическая проницаемость Эффективная масса электронов дырок Ширина запрещённой зоны, эВ Подвижность электроновм2/В*с дырок Собственная концентрация носителей, м-3 Собственное удельноесопротивление, Ом*м Коэффициент диффузии, м2/с электронов дырок |
5,32*103 72,6 4,4*1028 16 0,12 0,28 0,72 0,39 0,19 2,5*1019 0,68 9,9*10-3 4,7*10-3 |
2,33*103 28,1 51028 12 0,26 0,49 1,12 0,14 0,05 1016 2*103 1,3*10-3 1,3*10-3 |
11 0,07 0,5 1,4 1,1 0,045 1,5*1015 4*106 29*10-3 1,2*10-3 |
Заряд электрона q = 1,6*10-19 К
Масса свободного электрона m = 9*10-31 кг
Постоянная Планка h = 6,62*10-34 Дж*с = 4,14*10-15 эВ*с
Постоянная Больцмана k = 1,38*10-23 Дж/град = 0,862*10-4 эВ/град
Диэлектрическая проницаемость вакуума e0 = 8,86*10-12 Ф/м
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.