Целью работы является расчет основных параметров идеального полупроводникового p-n перехода на его основе в диапазоне температур 200-400К. Работа выполняется с использованием программы MathCAD-7 или выше.
1. Физические параметры идеального диода
1.1. Контактная разность потенциалов (U0) и ее температурная зависимость (U0(T));
1.2. Высота потенциального барьера (P(T)) в состоянии термодинамического равновесия при Т=300К;
1.3. Ширина области пространственного заряда (W) и ее границы (|xn|, |xp|), W(T);
1.4. Интегральная барьерная емкость p-n перехода (Сб), ее температурная зависимость;
1.5. Вольтамперная характеристика, температурная зависимость I(U,T);
1.6. Ток насыщения, температурная зависимость I0(T);
1.7. Определить отношение электронной составляющей тока насыщения к дырочной при Т=300 К.
1.8. Максимальная напряженность встроенного электрического поля перехода в состоянии термодинамического равновесия
1.9. Коэффициент инжекции p-n перехода γ (γp для p+n перехода и γn для n+p перехода;
1.10. Определить доминирующую составляющую тока насыщения (электронная или дырочная);
1.11. Сравнить характеристики p-n перехода для двух вариантов структур (p+n и n+p);
1.12. Определить напряжение, при котором наблюдается высокий уровень инжекции неосновных носителей заряда. (Т=300 К).
1.13. Построить распределение напряженности электрического поля в ОПЗ (e(x)).
1.14. Построить распределение электрического потенциала в ОПЗ (y(х)).
Контактная разность потенциалов, [B] |
(1). |
|
Высота потенциального барьера, [эВ] |
(2). |
|
Ширина области пространственного заряда (ОПЗ) , [м] |
(3). |
|
Максимальная напряженность встроенного электрического поля в (ОПЗ) , [В/м] |
(4). |
|
Интегральная барьерная емкость p-n перехода, [Ф] |
(5). |
|
Дифференциальная барьерная емкость p-n перехода, [Ф] |
(6). |
|
Приведенная концентрация примесей, [см-3] |
(7). |
|
Уравнение Шокли (ВАХ p-n перехода) , [А] |
(8). |
|
Ток насыщения p-n перехода с толстой базой ( AA - площадь перехода) , [А] |
(9). |
|
Соотношение Эйнштейна, [В] |
(10). |
|
Тепловой потенциал, [В] |
(11). |
|
Дифференциальное сопротивление p-n перехода при номинальном токе, [Ом] |
(12). |
|
Границы p-n перехода, [мкм] |
|xn|+|xp|=W(U,T), Nd|xn|=Na|xp| |
(13). |
Уравнение Пуассона, [В/м2] |
(14). |
|
Коэффициент инжекции (для p+n перехода) |
(15). |
1. Использовать общепринятые размерности физических величин в тексте и на графиках, например m [см2/(В×с)] или [м2/(В×с)]. Не допускается использование произвольных размерностей, например, Кулон/сек вместо Ампер.
2. Графики должны иметь общепринятый масштаб (линейный или логарифмический), например 0, 50, 100, 150 , а не 43.5 , 60.5 , 77.5 и т.д.; название, обозначение трасс и размерностей величин на осях.
3. На аппроксимационные, экспериментальные зависимости и формулы должны быть литературные ссылки (номер из списка литературы в косых скобках). Аппроксимационные зависимости получить, например, с помощью функций сглаживания:
· expfit Y=a×exp(bx)+c
· logfit Y=a×ln(x+b)+c
· pwrfit Y=a×xb+c и т.д. (из Ресурсного центра программы MathCAD (Resourse CenterOverview and TutorialsAnalizing Your DataSpecialized Fitting Function))
4. Список литературы с использованием библиографических правил обязателен.
5. Все рассчитанные величины должны сравниваться с литературными или Internet - источниками. Допускается расхождение до 10%.
Таблица 1
Физические параметры полупроводников (из базы данных ФТИ им. Иоффе (Санкт-Петербург) http://www.ioffe.rssi.ru/SVA/NSM/)
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.