ВОПРОС 35. вероятность безотказной работы. Законы распределения.
Безотказность - способность РЭА непрерывно сохранять заданные фун-ии в течении установленного технической документацией времени, харак-ся вероятностью безотказной работы, частотой отказа, интенсивностью отказа, средней нароботкой на отказ. В отдельных случаях надежность РЭА удобно оценивать вероятностью отказа. ВБР и частоту отказов f(t) можно найти статистически по данным об отказах технических систем. Р = (N-n)/N, N – число изд-ий в начале исп-й , n – число изд-й отказавших за время исп-я. Возникновение отказов носит случайный характер, значит Р(t), есть случайная вел-на. Для к-ой исполняются различные распределения. Распределение Вейбона. Экспоненциальный закон Релея и Пуассона. Отказы в РЭА созд-х большое число однотипных неремонтируемых элементов достаточно хорошо распределяется законом Вейбона:(1)
Экспоненциальное распределение (частный случай распределения Вейбома при b = 1), основан на том, что постоянной во времени λt. И успешно м.б. использована при расчетах апп-ры одноразового использования, содер-й большое число неремонтных деталей , тогда ВБР:(2)
При длит-ой работе апп-ры, при планировании ее ремонта важно знать не вероятность возникновения отказа, а их число за определенный период эксп-ии. Расп-е Пуассона позволяющие подсчитать вер-ть любого числа случайных событий, за нек-ый период времени применим закон для оценки надежности ремонтируемой РЭА, с простейшим потоком отказа, характерны аналогичные ограничения, что и при экспоненциальном распределении:(3).
ВОПРОС 36. Повышение надежности РЭА резервированием.
Резервирование – способ повышения надеж-ти заключ-ся в дублировании (иногда и многократном) РЭА в целом или отд-х модулей или элементов. Различают след. виды резер-я: - постоянная (резервные эл-ты вкл. вместе с осн-ми и функц-ют в тех же режимах); - скользящие (любой резервный эл-т может заменить любой отказавший). ВБР резервирующей си-мы: Р(t) = 1 – [1-Pc(t)], Pc – ВБР сис-мы. Кроме того в РЭА исп-ют общие, когда резер-ся отдельные модули апп-ры. При одинаковом кол-ве резервных эл-ов поэлементное резер-ие эффе-ей общего. Резер-е хотя и имеет положительный эффект, однако требует разработки дополнительных схем по обнаружению отказа, введению разнообразных выключателей при уст-ке рез-ва , что приводит к повышению стоимости, ее объему и массе.
ВОПРОС 37. Технология изготовления оригинала и фотошаблона ПП.
Оригиналом рис-ка ПП – наз-ся изображение рис-ка ПП вып-е с точностью в заданном масштабе. Фотошаблон рис-ка (ФШ) – наз-ют пластинку из стекла или полимера с прорезанными и непрорезанными для оптического излучения участками. ФШ основной инструмент для получения рис-ка на пов-ти ПП или отд-го его слоя. Оригинал рис-ка служит исходным документом для получения эталонных и фотоматериалов, необ-х для созд-я рис-ка токопроводящих участков ПП. Основной проблемой при производстве ФШ явл-ся обеспечение требуемой точности и метрической стабильности основных размеров рисунка. Критерии оценки кач-ва ФШ:
1. отсутствие фотографической вуали; 2. достаточная плотность черного фона; 3. высокая резкость края изображения; 4. одно из ответственных операций явл-ся размещение контрольных знаков. Предельное отклонение размеров эл-ов топологии ФШ в зав-ти от класса точности: 1 класс: ± 0,25; 2 класс:±0,1; 3 класс: ± 0,03; 4 класс: ± 0,02; 5 класс: ± 0,01. Ширина технологического поля расположенного по контуру рабочей зоны выбирают в пределах 30 мм. Оригиналы ПП ранее изготавливались вручную: 1. методом аппликации речатных эл-ов на основание оригинала; 2. на фотокоординатографа; 3. методом вырезания по контуру пленки нанесенной на стеклянное осн-е; 4. метод вырезание и гравирования линии на пленке; 5. покрытие эмалью или метод вычерчивания. После изг-я оригинала (масштаб 1:1; 5:1; 10:1) его помещают в установку экспонирования, где с него проекционным методом получают изоб-е топологии ПП. В кач-ве ФШ фотографические пластинки, фототехнические пленки. Время экспонирования определяют опытным путем, к-ое зависит от светочувствительности мат-ла, ист-ка светового излучения, спектральной чувствительности и спектра излучения. После экспон-я осущ-ся химико-фотографическая обработка фотоматериала. Контроль получаемого фотошаблона и удаление дефектов.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.