Элементарный объем металла, протекающий через питатель равен:
;
v – скорость течения металла по питателю – величина переменная; она уменьшается по мере подъема уровня металла Н в литейной форме:
, где Нст – высота стояка; Н – высота уровня металла в промежуточный период заполнения литейной формы. Тогда . Этот элементарный объем металла при поступлении в полость формы поднимет уровень металла на величину dH. Дифференциальное уравнение материального баланса расплава:
.
Разделим переменные:
.
Рис. 33. Схема заполнения при боковом подводе металла
После интегрирования левой и правой частей уравнения получим следующее выражение для расчета площади поперечного сечения питателя:
.
Боковая литниковая система, при которой подвод металла осуществляется по горизонтальной плоскости разъема, сочетает специфические особенности заполнения при нижнем и верхнем подводе металла (рис. 33).
Нижняя часть отливки (Нн) заполняется по аналогии с заливкой сверху, а верхняя часть отливки (Нв) заполняется аналогично с сифонной литниковой системой. И длительность заполнения всей отливки складывается из времени заполнения нижней части и времени заполнения верхней части отливки. По методике расчета верхней литниковой системы время заполнения нижней части отливки определится:
, где Vн – объем нижней части отливки; f – площадь сечения питателя.
По методике расчета сифонной литниковой системы время заполнения верхней части отливки составит:
.
Просуммировав получим выражение:
, а из полученного выражения площадь сечения питателя при боковом подводе металла определится:
.
Ступенчатая литниковая система (рис. 34) сочетает в себе достоинства верхней и нижней литниковой системы, а именно первые порции жидкого металла в полость литейной формы поступают через нижний питатель спокойной струей без завихрений и разбрызгивания; а затем после поднятия уровня в вертикальном коллекторе начинается заполнение через верхний питатель. В конце заполнения основная масса расплава поступает через верхний питатель и обеспечивает поступление его в прибыль с более высокой температурой. Примем площади сечений верхнего и нижнего питателей одинаковыми – f. Для расчета площади сечения питателей f примем, что заполнение происходит одновременно через оба питателя.
Рис. 34. Схема заполнения полости формы при ступенчатой литниковой системе
За время заполнения tзал через верхний питатель пройдет объем расплава:
.
За это же время через нижний питатель пройдет объем металла:
;
здесь величина металлостатического напора взята как средняя арифметическая ввиду подъема уровня металла от нижнего уровня h = 0, до верхнего уровня h = h0. Суммируем эти два объема, составляющие объем всей отливки:
.
Отсюда определится площадь сечения питателя:
.
Щелевая литниковая система в еще большей степени обеспечивает спокойный подвод металла в течение всего периода заполнения и поступление в верхнюю часть отливки (в прибыль или под прибыль) более нагретого металла (рис. 35).
Рис. 35. Схема заполнения полости формы при щелевой литниковой системе
Будем считать, что уровень металла в полости литейной формы совпадает с уровнем металла в щелевом питателе шириной "d". Составим уравнение материального баланса расплава при заполнении в дифференциальной форме. Элементарный объем металла, протекающий через щелевой питатель с учетом увеличения живого сечения за счет подъема уровня металла h, составит:
, где vср – средняя скорость потока металла в питателе, которую можно принять приближенно: .
Этот элементарный объем повысит уровень металла в форме на величину dh, а весь элементарный объем, поступивший в полость формы равен:
, где F – площадь поперечного сечения полости формы (отливки), h – переменная высота уровня.
Приравняем элементарные объемы:
.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.