длин волн глубокого ультрафиолета 0,01— 0,1 мкм практически никаких исследований процесса теневой передачи изображения не проводилось. Из-за большого поглощения излучения в этом диапазоне длин волн создать шаблоны с прозрачными подложками невозможно —· прозрачных материалов нет. Единственной альтернативой остаются трафаретные шаблоны с субмикронными отверстиями. Исследуются различные методы изготовления субмикронных трафаретных шаблонов: методы с использованием анизотропного травления кремниевых или полимерных мембран. При этом используются маски, созданные предварительно методом электронно-лучевой литографии. По технологии эти методы близки к методам создания рентгеновских шаблонов.
Активно используются методоы теневой литографии с зазором в диапазоне длин волн мягкого рентгеновского излучения: λ=0,1 -10 нм. Коэффициент поглощения излучения в рентгеновском диапазоне сильно зависит от атомного номера вещества Ζ и частоты излучения. Такое соотношение показывает, что для работы на заданной частоте в качестве подложек рентгеношаблонов могут быть выбраны мембраны из материалов с малым Ζ. Действительно, органические полимеры (Zэфф»5) и бериллий (Ζ=4) оказываются достаточно прозрачными для длин волн менее 1 нм при толщине до 10 мкм, а материалы с относительно малыми Ζ (кремний, окись кремния, нитрид кремния) могут считаться прозрачными при толщине менее 1 мкм.
Малая толщина слоя является необходимым условием создания субмикронного рисунка в поглощающем слое рентгеношаблона (методами электронно-лучевой литографии). В качестве поглощающего покрытия в рентгеношаблонах используется исключительно золото (Ζ=79) вследствие технологичности этого материала при изготовлении и коррозионной стойкости при эксплуатации шаблона.
Первичным процессом при поглощении атомами мишени фотона мягкого рентгеновского излучения (энергии фотонов E(эВ) = 1240/l(нм)=250— 2500 эВ) является процесс фотоионизации атома. В результате фотоионизации из оболочки атома вылетает фотоэлектрон с энергией порядка 1 кэВ. Вакантное состояние в атоме, возникшее в результате фотоионизации, быстро заполняется путем перехода электронов с внешних оболочек. При этом испускается или квант характеристического рентгеновского излучения (вероятность этого процесса возрастает с частотой излучаемого кванта как ω2, поэтому испускание квантов является наиболее вероятным процессом при излучении высокоэнергетичных квантов в тяжелых атомах), или электрон. Процесс заполнения вакансии в атомной оболочке электроном с внешней оболочки атома носит название оже-процесса, причем освобождающуюся энергию уносит второй
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.
