Определение общей концепции проектирования вакуумной технологической установки

Страницы работы

Уважаемые коллеги! Предлагаем вам разработку программного обеспечения под ключ.

Опытные программисты сделают для вас мобильное приложение, нейронную сеть, систему искусственного интеллекта, SaaS-сервис, производственную систему, внедрят или разработают ERP/CRM, запустят стартап.

Сферы - промышленность, ритейл, производственные компании, стартапы, финансы и другие направления.

Языки программирования: Java, PHP, Ruby, C++, .NET, Python, Go, Kotlin, Swift, React Native, Flutter и многие другие.

Всегда на связи. Соблюдаем сроки. Предложим адекватную конкурентную цену.

Заходите к нам на сайт и пишите, с удовольствием вам во всем поможем.

Содержание работы

1 Конструкторская часть

1.1 Определение общей концепции проектирования вакуумной технологической установки

Согласно техническому заданию требуется спроектировать вакуумную технологическую установку для нанесения защитных жаростойких покрытий на лопатки турбин:

а)  покрытие наносится на лопатку турбины, которая имеет высоту равную 286 мм и ширину размером 74 мм;

б)  установка должна обеспечивать обработку 10 лопаток за один цикл;

в)  в качестве источника материала покрытия использовать квазимагнитронную распылительную систему;

г)  квазимагнитрон, также, использовать для ионной очистки подложки;

д)  покрытие должно быть толщиной d = 150 мкм;

е)  скорость нанесения покрытия составляет V = 1 мкм/м;

ж)  неравномерность покрытия допускается ± 5 %;

з)  откачку камеры осуществлять до давления Рпр = 6,6×10-5 Па.;

и)  рабочее давление при нанесении покрытия в среде аргона Рраб = 10-1 Па;

к)  материал мишени квазимагнитрона – хром, никель, алюминий и иттрий.

Проанализировав исходные данные и основываясь на опыте проектирования вакуумных установок, определяем основные направления, по которым будет продвигаться решение данной задачи.

Основным, определяющим конструкцию, требованием к установке является обработка на ней лопаток турбин. Лопатки в камере устанавливаем по окружности вокруг катодов квазимагнитрона. Исходя из этого, выбираем камеру цилиндрической формы. Таким образом, мы максимально заполняем рабочий объём камеры.

На следующем этапе проектирования определяемся с конструктивной схемой источника материала покрытия. Согласно заданию в качестве источника материала должна быть взята квазимагнитронная распылительная система.

Обработку лопаток с двух сторон обеспечиваем созданием планетарной системы вращения. Каждая лопатка получает возможность вращаться вокруг своей оси и оси вакуумной камеры одновременно. Вращение производится с помощью электродвигателя, находящегося с наружи вакуумной камеры. Связь электродвигателя с ведущим элементом системы вращения лопаток осуществляется через вакуумный ввод вращения на основе уплотнения манжетами и фторопластовой втулки.

Система откачки вакуумной камеры включает в себя: форвакуумный насос, высоковакуумный насос, затвор, клапаны, ловушки и сильфоны.

Таким образом, обозначены основные направления конструирования вакуумной технологической установки.

1.2 Проектирование и расчёт квазимагнитронной распылительной системы

1.2.1 Расчёт мощности источника плазмы

Мощность источника плазмы можно определить следующим образом [3]:

N = V×F×x×n,

(1.1)

где N – мощность, потребляемая установкой;

V – скорость осаждения покрытия V = 1,7×10-8 м/ч

x – энергетическая цена покрытия, x = 0,4 Вт/((мкм/ч)×см2);

n – количество одновременно обрабатываемых изделий;

F – площадь защищаемой поверхности изделия.

Площадь защищаемой поверхности изделия (рисунок 1.1) можно определить по следующей формуле:

,

(1.2)

где B – толщина лопатки;

L – ширина лопатки;

h – высота лопатки.

В результате вычисления по формуле (1.2) получаем следующую величину площади защищаемой поверхности одного изделия:

 (м2).

Подставив полученный результат в формулу (1.1), получим значение мощности источника плазмы:

N = 1,7×10-8×2,62×10-2×0,4×10 = 62,88 (кВт).

1.2.2 Расчёт геометрических размеров катода

Рисунок 1.1 – Расчётная схема площади защищаемой поверхности

Рисунок 1.2 – Расчётная схема катода квазимагнитрона

Поскольку на поверхность лопатки наносится жаростойкое покрытие, со сложным стехиометрическим составом, состоящим из четырёх материалов: Ni – 50%, Cr – 44%, Al – 4%, Y – 2% [4], и основной процент составляют никель и хром, то потоком иттрия и алюминия можно пренебречь. А так как количество никеля в сплаве больше чем хрома, то в дальнейшем при расчёте катода будем использовать материал катода – никель.

На основании полученного результата потребляемой мощности источника плазмы можно предположить, что температура внутри вакуумной камеры будет очень высокой. В связи с этим принимаем конструкцию катода водоохлаждаемой. Трубка, по которой будет производиться подвод воды внутрь катода, изготовлена из меди М2 (ГОСТ 612-72) и имеет следующие размеры: наружный диаметр – dнт = 10-2 м, толщина стенки – dт = 1×10-3 м, длина трубки – lт = 0,3 м (рисунок 1.2) [5].

Опираясь на имеющиеся данные и учитывая, что площади входного и выходного отверстий в катоде должны быть равны, так как объём поступаемой воды в катод должен быть равен объёму воды удаляемой из него, можно определить диаметр внутренней полости катода из выражения

,

(1.3)

где dвт – внутренний диаметр трубки;

dвк – внутренний диаметр катода;

Похожие материалы

Информация о работе

Уважаемые коллеги! Предлагаем вам разработку программного обеспечения под ключ.

Опытные программисты сделают для вас мобильное приложение, нейронную сеть, систему искусственного интеллекта, SaaS-сервис, производственную систему, внедрят или разработают ERP/CRM, запустят стартап.

Сферы - промышленность, ритейл, производственные компании, стартапы, финансы и другие направления.

Языки программирования: Java, PHP, Ruby, C++, .NET, Python, Go, Kotlin, Swift, React Native, Flutter и многие другие.

Всегда на связи. Соблюдаем сроки. Предложим адекватную конкурентную цену.

Заходите к нам на сайт и пишите, с удовольствием вам во всем поможем.