Сопоставляя теперь значения Q1, Q2, Q3,..., полученные из расчета по формуле (3.6.3) со значениями, приведенными в табл. 3.6.1, определяют тип решетки. Следует иметь в виду, что вследствие различной интенсивности отражений некоторые кольца на электронограммах могут проявляться слабо, фрагментарно, или вообще не выявляются. Вместе с тем, на электронограммах образцов, не подвергнутых очистке, могут появиться дополнительные кольца второй фазы, поэтому иногда 100%-ных совпадений рассчитанных значений с данными таблицы не наблюдается. Приходится ограничиваться совпадениями у 3...4 колец, подбирать, какое из колец с малыми номерами (1,2,3) нужно считать первым, при расчете двух- и многофазных систем пользоваться ЭВМ.
Определив тип решетки, с помощью таблицы 3.6.2 можно проиндицировать наблюдаемые дифракционные рефлексы и, подставляя наборы с соответствующими значениями Ri в формулу 3.6.1, найти набор значений а0 ребра куба элементарной ячейки. Разброс значений а0 является следствием как неточностей при определении Ri, так и изменениями постоянной прибора С при больших L .
Для проверки правильности индицирования и уточнения средней величины а0 можно построить график зависимости величины от соответствующих Ri. Если индексы выбраны правильно, то через расчетные точки можно провести прямую, проходящую через начало координат с угловым коэффициентом a0/С, что, при известном веществе и величине a0, найденной из справочной литературы, позволяет найти постоянную прибора С. Если точки не "ложатся" на прямую, то это может объясняться двумя причинами: либо неправильным выбором индексов вследствие, например, наличия второй фазы, либо ошибкой в измерениях, связанной с эллиптичностью колец или неточным определением положения центра картины.
Таблица 3.6.2
Индексы (HKL) рефлексов, возникающих при рассеивании электронов на решетках типа алмаза, ГЦК, ОЦК*
ОЦК |
ГЦК |
Алмаз |
|||||||
№№ колец |
V |
{hkl} |
№№ колец |
V |
{hkl} |
№№ колец |
V |
{hkl} |
|
1 |
2 |
110 |
1,414 |
||||||
1 |
3 |
111 |
1 |
3 |
111 |
1,732 |
|||
2 |
4 |
200 |
2 |
4 |
200 |
2,000 |
|||
3 |
6 |
211 |
2,433 |
||||||
4 |
8 |
220 |
3 |
8 |
220 |
2 |
8 |
220 |
2,828 |
5 |
10 |
310 |
3,162 |
||||||
4 |
11 |
311 |
3 |
11 |
311 |
3,317 |
|||
6 |
12 |
222 |
5 |
12 |
222 |
3,464 |
|||
7 |
14 |
321 |
3,742 |
||||||
8 |
16 |
400 |
6 |
16 |
400 |
4 |
16 |
400 |
4,000 |
9 |
18 |
330 |
4,243 |
||||||
7 |
19 |
331 |
5 |
19 |
331 |
4,359 |
|||
10 |
20 |
420 |
8 |
20 |
420 |
4,472 |
|||
11 |
22 |
332 |
4,690 |
||||||
12 |
24 |
422 |
9 |
24 |
422 |
6 |
24 |
422 |
4,899 |
13 |
26 |
431 |
5,099 |
||||||
10 |
27 |
333 |
7 |
27 |
333 |
5,196 |
|||
14 |
30 |
521 |
5,477 |
||||||
15 |
32 |
440 |
11 |
32 |
440 |
8 |
32 |
440 |
5,657 |
*В таблице использовано обозначение V = H2 + K2 + L2.
Вообще электронография позволяет определять параметр решетки с абсолютной ошибкой около 0,0002 Å, однако точный расчет некоторых электронограмм может занимать часы, дни и недели даже с использованием ЭВМ. Это относится в первую очередь к многокомпонентным веществам с низкосимметричными решетками. В практике исследований широко применяются эталонные электронограммы и таблицы ASTM (Amercan Society for Testing and Materials), где сконцентрирована информация о десятках тысяч веществ.
3.6.4. Растровая электронная микроскопия (РЭМ)
Рис.3.6.4. Принципиальная схема растрового электронного микроскопа: 1 - электронная пушка, 2 - конденсорные линзы, 3 - объективная линза, 4 - отклоняющие катушки системы сканирования, 5 - коллектор электронов, 6 - фотоаппарат
Наблюдаемая область последовательно, точка за точкой, строка за строкой облучается перемещающимся электронным пучком микроскопа подобно сканированию в телевидении; соответствующее изображение строится синхронно и синфазно на флуоресцирующем экране (иногда - сразу на двух), напоминающем экран телевизора небольшого размера.
Электронные линзы, установленные в вакуумной колонне (рис.3.6.4), используются для формирования зонда и "доставки" пучка электронов к поверхности образца. При взаимодействии электронов, ускоренных электрическим полем в 1...50 кВ, с веществом, основными являются неупругие соударения падающих электронов с электронами образца и упругие столкновения с ионами остова решетки. Коллектор, устанавливаемый возле образца, способен регистрировать как отраженные или рассеянные электроны (РЭ), так и вторичные электроны (ВЭ). Существуют различия в исследовании РЭ и ВЭ как в отношении разрешающей способности, так и в механизме создания ими контраста изображения. Это определяется, во-первых, различиями в их энергетических спектрах и, во-вторых, различиями их интенсивности, обусловленными облучаемым объектом (рис.3.6.5).
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.