29. Зависимость электропроводности металлов от температуры.
Неупорядоченные сплавы металлов не имеют четкого чередования ионов различных видов, образующих сплав. Благодаря этому, средняя длина свободного пробега электрона очень невелика, так как он рассеивается на часто встречающихся нарушениях дальнего порядка кристаллической решетки сплава. В этом смысле можно говорить об аналогии процессов рассеяния электронов в неупорядоченных сплавах и фононов в аморфных телах. На рис. 18.1, а показана зависимость от температуры параметров, определяющих тепло- и электропроводность металла.Теплопроводность таких материалов невелика и монотонно растет с температурой вплоть до значений , а электропроводность остается практически постоянной в широком интервале температур. Сплавы широко используются как материалы с весьма малым ТКС (температурный коэффициент сопротивления). Стабильность сопротивления объясняется тем, что основным процессом рассеяния является рассеяние на дефектах, параметры которого практически не зависят от температуры.
б) Моно- и поликристаллические металлы
На рис. 18.1,6 показана температурная зависимость основных параметров, определяющих тепло- и электропроводность металлов. Основные механизмы рассеяния, участвующие в формировании сопротивления переносу тепла и заряда,— это электрон-фононное рассеяние и рассеяние электронов на дефектах. Электрон-фононное рассеяние,. то есть рассеяние электронов на тепловых флюктуациях кристаллической решетки, играет решающую роль при достаточно высоких температурах. Эта область значений Т соответствует области I (рис. 18.1,6). В низкотемпературной области решающую роль играет рассеяние на дефектах. Заметим, что теплопроводность металла в низкотемпературной области пропорциональна Т, а не , как в случае диэлектриков.
Электропроводность металла
монотонно растет с уменьшением температуры, достигая в некоторых случаях
(чистые металлы, монокристаллы) огромных значений. Теплопроводность металла
имеет максимум при и также может иметь большую
величину.
30. Зависимость теплопроводности диэлектриков от температуры.
В аморфных телах длина свободного пробега фононов очень мала и имеет величину порядка 10—15 Ангстрем. Это связано с сильным рассеянием волн в решетке вещества на неоднородностях структуры самой решетки аморфного тела. Рассеяние на неоднородностях структуры оказывается преобладающим в широком интервале температур от единиц градусов Кельвина до температуры размягчения аморфного тела. При очень низких температурах в спектре тепловых колебаний исчезают высокочастотные фононы; низкочастотные длинноволновые фононы не испытывают сильного рассеяния на неоднородностях, размер которых меньше длины волны, и поэтому при очень низких температурах среднее время свободного пробега несколько возрастает. В соответствии с кинетической формулой зависимость коэффициента теплопроводности от температуры определяется в основном температурным ходом теплоемкости. На рис. 17.1, а показан температурный ход , Сvи х для аморфных диэлектриков.
Теплопроводность диэлектрических монокристаллов не может быть рассмотрена только с позиций рассеяния фононов на дефектах кристаллической решетки. В этом случае решающую роль играют процессы взаимодействия фононов между собой. Говоря о вкладе фонон-фононного взаимодействия в процессах теплопереноса, нужно четко различать роль нормальных процессов (N-процессов) и процессов переброса (U-процессов).
При N-процессах фонон, возникший в результате акта взаимодействия, сохраняет квазиимпульс двух фононов, его породивших: . То же происходит и при N-процессах распада одного фонона на два. Таким образом, при N -процессах происходит перераспределение энергии между фононами, но сохраняется их квазиимпульс, т. е. сохраняется направленность движения и сохраняется общая сумма энергии, переносимой в данном направлении. Перераспределение энергии между фононами не влияет на перенос тепла, так как тепловая энергия не связана с фононами определенной частоты. Таким образом, N-процессы не создают сопротивления тепловому потоку. Они только выравнивают распределение энергии между фононами разной частоты, если такое распределение может быть нарушено другими взаимодействиями.
Иначе обстоит дело с U-процессами, при которых в результате взаимодействия двух фононов рождается третий, направление распространения которого может оказаться противоположным направлению распространения исходных фононов. Другими словами, в результате U-процессов могут возникать элементарные тепловые потоки, направленные в обратную сторону по отношению к основному потоку. В силу этого U-процессы создают тепловое сопротивление, которое при не очень низкой температуре может оказаться решающим.
При достаточно большой температуре средняя длина свободного пробега фононов, определяемая U-процессами, обратно пропорциональна температуре, При уменьшении температуры величины и растут по закону .
U-процессы возникают тогда, когда суммарный волновой вектор выходит за пределы зоны Бриллюэна.
При начинает сказываться уменьшение возбуждения высококачественных фононов, для которых Благодаря этому начинает резко падать число фононов, способных участвовать в процессах переброса. Поэтому и начинают расти с уменьшением Т гораздо быстрее, чем .С уменьшением температуры средняя длина свободного пробега растет вплоть до тех значений, при которых заметно сказывается рассеяние на дефектах или границах образца. На рис. 17.1,6 показан ход зависимостей , Сvи х от температуры. Температурную зависимость коэффициента теплопроводности х можно разделить на три участка: I – высокотемпературная область, , решающую роль в образовании теплового сопротивления играют U-процессы. II- область максимума теплопроводности, эта область обычно лежит при Т . III - низкотемпературная область, в этой области тепловое сопротивление определяется рассеянием на дефектах, , что задается температурным ходом емкости.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.