МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования
«Национальный исследовательский университет «МИЭТ»
Кафедра: Материалы функциональной электроники
Дисциплина: Физико-химические основы технологии интегральных микро- и наноструктур
Курсовая работа
Руководитель:
Выполнили: студенты группы ИТС-35,
и
Зеленоград-2017
Оглавление
1. Теоретическая часть
1.1 Эпитаксия
1.2 Прогнозирование возможности и характера процесса эпитаксии
1.3 Параметры хлоридного процесса эпитаксии
1.4 Расчет технологических параметров процесса диффузии
1.4.1 Диффузия в полубесконечное тело из бесконечного источника
1.4.2 Диффузия в полубесконечное тело из ограниченного источника
2. Практическая часть
2.1. Выбор легирующей примеси
2.2. Уход металлургической границы скрытого слоя
3. Список литературы
Эпитаксия – процесс наращивания монокристаллических слоев на монокристаллических подложках. Монокристаллические подложки в процессе эпитаксиального наращивания выполняют ориентирующую роль заставки, на которой происходит кристаллизация. Основная особенность – слои и локальные области противоположного типа проводимости или с отличной от полупроводниковой пластины концентрацией примеси представляют собой новые образования над исходной поверхностью. В процессе роста эпитаксиальные слои легируют, т.е. в них вводят донорные или акцепторные примеси. Особенностью также является то, что появляется возможность получения высокоомных слоев полупроводника на низкоомных пластинах.
Прогнозирование возможности и характера процесса эпитаксии
Основные физико-химические факторы, которые оказывают влияние на характер взаимодействия веществ в процессе эпитаксии и тип диаграммы фазовых равновесий, весьма разнообразны, и возможность их полного учета затруднена.
Наиболее общей характеристикой, от которой зависит тип диаграммы состояния является величина теплоты (энергии) смешения взаимодействующих компонентов Есм. Соотношение между Есм обеих фаз и величиной kT (k ‑ постоянная Больцмана) является критерием типа диаграмм фазовых равновесий.
Прежде всего, положительное значение Есм характеризует стремление компонентов системы к обособлению, а при Есм ≥ 2kT наблюдается расслаивание (начиная с температуры Tр ≥ Есм/2k). Отрицательное значение Есм указывает на тенденцию к объединению (рис. 1.1).
Рис. 1.1 Типы диаграмм фазовых равновесий и вероятность протекания процессов эпитаксии
Критерии, используемые для теоретического построения диаграмм фазового равновесия, могут быть использованы для определения вероятности эпитаксии двух веществ. Так, например, критерии, указывающие на вероятность образования химических соединений в системе между двумя веществами, могут быть использованы как критерии невозможности процессов гетероэпитаксии. При полной несмешиваемости компонентов в твердом и жидком состоянии образования сплошного ПЭС, способного компенсировать несоответствие срастающихся решеток, не происходит, и вероятность срастания может быть определена только по структурно-геометрическому соответствию.
Если критерии, используемые для прогноза типа диаграмм состояния, указывают на возможность простого эвтектического взаимодействия и наличия некоторой растворимости в твердом состоянии, то можно с уверенностью предсказать возможность гетероэпитаксии при конденсации из газовой фазы или из молекулярного пучка в вакууме.
Процессы автоэпитаксии возможны практически для любых систем, однако распределение примеси в переходном эпитаксиальном слое будет различным в зависимости от эффективного коэффициента распределения.
Прогнозирование вероятности и характера процесса эпитаксии (протекающего, как правило, в неравновесных условиях) по диаграммам состояния взаимодействующих веществ осуществляют с учетом представлений о механизме фазовых превращений при изотермической диффузии компонентов и существовании переходного эпитаксиального слоя на границе раздела подложка – эпитаксиальный слой. Протяженность ПЭС определяется внешними факторами процесса эпитаксии и зависит от диаграммы состояния данной системы (рис. 1.2, а). Для того чтобы этот слой имел достаточно высокую степень совершенства кристаллической структуры, необходима взаимная растворимость срастающихся веществ и определенная температура процесса. ПЭС во многом похож на когерентные границы зерен. В нем возможно возникновение значительных механических напряжений. Если растворимость в твердом состоянии мала и не способна обеспечить когерентность перехода одной кристаллической решетки в другую, то для компенсации несоответствия в переходной области срастания возникает двух- или трехмерная сетка дислокаций.
Рис. 1.2 Формирование ПЭС при гетероэпитаксии
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.