Якщо струм каналу відсутній (Еd = 0), то при зміні напруги ЕЗ, яка являється зворотньою напругою для p-n переходу, буде змінюватися ширина p-n переходу за рахунок n-структури. В результаті ширина каналу з вільними n-носіями буде звужуватись, а його опір, відповідно, зростати. При протіканні струму через канал від джерела Еd внаслідок високого опору напівпровідника на довжині каналу буде мати місце падіння напруги. Це приводитьь до того, що величина звортньої напруги, прикладаєма до верхньої частини p-n переходу буде більшою, ніж до нижньої. Відповідно в верхній частині ширина p-n переходу зросте, а каналу – зменшиться. Зростання струму каналу буде приводити до перекривання каналу в верхній частині p-n перходу, внаслідок чого величина струму буде знижуватись. Описана робота ілюструється вольт-амперними характеристиками транзистора, приведеними на рис. 1.30.
Вцілому всі характеристики розділяються на три характерні області. В перший області має місце висока залежність струму витоку Іd від напруги. Характеристики області І характерні для відкритого каналу. В області І транзистор працює тоді, коли він використовується як регулюємий опір. В другій області має місце перекриття каналу в результаті чого має місце внутрішня стабілізація струму каналу в широкому діапазоні робочих напруг. Область ІІ використовується при використанні транзисторів в режимі підсилення. Характерною для цього режиму являється струмозатворна характеристика (рис. 1.31,а) для ви-значеної напруги UЗД, яка викорис-товується при визначенні параметрів схеми заміщення транзистора (рис.1.31,б). Крутизна характеристики S визначається по формулі:
S=.
Величина rі визначається по вихідних характеристиках транзистора для конкретної робочої точки. Ємкості конденсаторів CЗД, СЗВ, СДВ вибираються з довідників, а при розгляді низькочастотного діапазону ігноруються. На рис.1.29,б, приведені умовні позначення транзистора з n (верхній) і р (нижній) каналами.
Область III харак-теризується режимом пробою p-n переходу .
Другою групою польових транзис-торів являються структури МДН-типу (МДН – метал-діе-лектрик-напівпровід-ник). Відповідно в англомовній терміно-логії MOS – metal-oxide-semiconductor). Структура такого транзистора приведена на рис.1.32,а. Базовим являється напівпровідник р-типу в верхній частиині якого створено області n-типу, з‘єднані між собою каналом. Напівпровідникові області закривають тонкою плівкою ізолюючого матеріалу і зверху над каналом напиляють металеву плівку, яка приєднується до затвору З. Електрод Д n-структури, з‘єднаний з нижнім електродом – підложкою П, виконує функцію джерела.
Вигляд сімейства вихідних статичних характеристик близький до зхарактеристик канального транзистора з p-n переходом. Як і в попередньому випадку в ньому виділяються три області, які відрізняються по крутизні характеристик і областях їх використання. При постійній напрузі на затворі фізичні явища в каналі транзистора подібні до описаних раніше. Потенціалом затвора можна звужувати або розширювати канал. Якщо на затвор по відношенню до підложки подається позитивний потенціал, то електрони р-структури переміщуються до затвору і тим самим розширюють канал. Такий режим називається режимом збагачення каналу.(рис.1.32,б) і він забезпечує збільшення струму витоку транзистора; при подачі на затвор від‘ємного потенціалу, навпа-ки, концентрація електронів в каналі зменшиться, що на-зивається режимом збіднення каналу. На рис. 1.32,в при-водяться струмозат-ворні характеристи-ки для різних типів каналів. Криві 1 і 2 являються характе-ристиками транзис-торів з вмонтова-ним каналом, відпо-відно n і p типів. Криві 3 і 4 характе-ризують залеж-ність ІВ(UДЗ) для транзисторів, в яких при відсут-ності напруги на затворі канал від-сутній і струм через транзистор не протікає (індуційований канал).
На рис.1.33. приводяться умовні зображення різних типів польових
транзисторів. Зображення а,б,в характерні для транзисторів з вмонтованим
каналом, а г,д,е – з індуційованим. Транзистори а,г мають канал n-типу; решта – р-типу.
Загальна характеристика транзисторів.
Транзистори за своєю різноманітністю являються найбільш масовим виробом електроної промисловості. Незалежно від технологій їх виготовлення використовуються дві основні ознаки, за якими розрізняють транзистори - за діапазонами робочих частот і за допустимою потужністю, яка може виділятися в колекторному переході.
Допустима потужність PК., виділяєма на колекторному переході, визначається добутком колекторної напруги, що прикладається до р-n переходу і струмом, який протікає через нього. В зв’язку з цим потужність РК. буде визначатися умовами відводу тепла з колекторного переходу. З цим пов’язана конструктивна особливість виготовлення транзисторів яка полягає в тому, що колекторний електрод у більшості транзисторів розміщується на їх корпусі. Тільки останні роки, завдяки розвитку технологій, ефективне відведення тепла з колектора забезпечується і при його електричній ізоляції від колектора. За величиною допустимої потужності РК. вони поділяються на транзистори малої потужності РК < 0.3-0.4 Вт), середньої (до 1.5Вт) і великої (> 1.5Вт). Зі зростанням потужності транзисторів змінюється їх конструкція в напрямку підвищення ефективності відводу тепла. Транзистори середньої і великої потужності виготовляються так, щоб при значних навантаженнях можна було використовувати зовнішні тепловідводи (охолод-жувачі, радіатори). Незалежно від потужності для любого тран-зистора в довідниковій літературі наводиться максимально можли-ва потужність РМАХ, яка може виділятьсь на колекторному переході. На графіках вихідних ВАХ транзисторів вона пред-ставлена у вигляді кривої РКМД. (Рис.1.34.) До того ж в довід-никах приводяться такі парамет-ри, як UКМД (максимально допу-стима напруга колекторного переходу) і IКМД (максимально допустимий струм колектора), які обмежують можливий діапазон робочих параметрів транзистора. Величини UКМД і IКМД залежать від режиму роботи транзистора.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.