Санкт-Петербургский Государственный Технологический Институт
Кафедра Радиационной технологии
Отчет по лабораторной работе:
«Оптические свойства облученных кристаллов CsBr – In»
Студент: Клюшкин А. В.
Преподаватель: Штанько В. И.
Санкт-Петербург
2010 год.
1. Теоретическая часть.
Кристалл CsBr, активированный индием, примечателен тем, что в нем при сравнительно небольших дозах 102 – 103 Гр образуется достаточное для регистрации по оптическому поглощению количество точечных радиационных дефектов, устойчивых при комнатной температуре, и прогрев облученных кристаллов приводит к образованию агрегатов атомов индия, от простейших In20-центров до крупных агрегатов, которые претерпевают фазовый переход в зародыш металлической фазы, дальнейший рост которых, в свою очередь, приводит к образованию металлических индиевых частиц.
Сразу после облучения в кристалле образуется In0-центры, последующий прогрев в течение 3-5 минут при 150 0С приводит к исчезновению In0-центров и образованию In20-центров и образованию более сложных агрегатов.
Идентификация в облучнных кристаллах CsBr – In In0 и In20-центров основывается на следующих свойствах этих центров:
1) соответствующие указанным центрам полосы поглощения при 405 и 475 нм возникают только в том случае, когда кристалл до облучения содержал ионы индия. Поэтому был сделан вывод, что в состав исследуемых дефектов входит индий, но в отличие от исходного зарядовом состоянии;
2) было получено, что под действием света, соответствующего поглощению исследуемых центров, они разрушаются:
Если высвечивание проводится при температуре жидкого азота (77К), то образующиеся электроны ловушками, которые в свою очередь могут быть проявлены путем прогрева освещенного образца. При гареве образцы дают термолюминесценцию, поки которой совпадают в пиками термолюминесценции, полученной при прогреве образцов , предварительнь облученных и высвеченных светом из F-центров;
3) прогрев облученных образцов при разной темепературе приводит к уменьшению содержания In0 и образованию In20-центров. Количество In0 –центров определяют по интенсивности свечения, возникающего по схеме:
а In20-центров – по интенсивности внутрицентрового свечения этих центров. Если перед прогревом образеца в нем высветить In0 –центры, то In20-центры не образуются.
Весь этот комплекс исследованя позволяет заключить, что в состав центра, поглощающего при длине волны 475 нм, входят два атома индия.
2. Экспериментальная часть.
Необлученный кристалл.
Построение линейных анаморфоз In+.
(Н-Нmax)2, эВ |
(Аmax/A)-1 |
Ln(Amax/A) |
0 |
0 |
0 |
0,003847 |
0,143 |
0,134 |
0,015 |
0,488 |
0,398 |
0,035 |
0,939 |
0,662 |
0,062 |
1,667 |
0,981 |
0,096 |
3 |
1,386 |
0,138 |
6,111 |
1,962 |
0,189 |
11,8 |
2,549 |
0,246 |
31 |
3,466 |
0,312 |
63 |
5,159 |
Распределение по Гауссу.
|
|
показатель приломления для бромида цезия при λ=475 нм |
|
число прмесных ионов индия в см3 |
|
толщина кристалл в см |
|
|
коэффициент поглощения в максимуме полосы поглощения, см-1 |
|
|
ширина полосы поглощения на половине высоты, эВ |
|
|
сила осцилятора для А-полосы иона индия |
Облученный кристалл.
Построение линейных анаморфоз для In0 –центров.
(Н-Нmax)2, эВ |
(Аmax/A)-1 |
Ln(Amax/A) |
0 |
0 |
0 |
0,003847 |
0,05 |
0,049 |
0,015 |
0,2 |
0,182 |
0,035 |
0,448 |
0,37 |
0,062 |
0,909 |
0,647 |
0,096 |
1,8 |
1,03 |
0,138 |
2,818 |
1,34 |
0,189 |
4,25 |
1,658 |
0,246 |
6 |
1,946 |
0,312 |
9,5 |
2,351 |
Распределение по Гауссу.
показатель приломления |
толщина кристалл в см |
коэффициент поглощения в максимуме полосы поглощения, см-1 |
ширина полосы поглощения на половине высоты, эВ |
сила осцилятора для А-полосы In-0 |
количество In-0 в см3 |
Построение линейных анаморфоз для F –центров.
(Н-Нmax)2, эВ |
(Аmax/A)-1 |
Ln(Amax/A) |
0 |
0 |
0 |
0,003847 |
0,064 |
0,062 |
0,008656 |
0,19 |
0,174 |
0,015 |
0,429 |
0,357 |
0,024 |
0,923 |
0,654 |
0,035 |
1,623 |
0,968 |
0,047 |
3,545 |
1,514 |
0,062 |
6,143 |
1,966 |
0,078 |
11.5 |
2,526 |
0,096 |
15,667 |
2,813 |
Распределение по Гауссу.
показатель приломления |
толщина кристалл в см |
коэффициент поглощения в максимуме полосы поглощения, см-1 |
ширина полосы поглощения на половине высоты, эВ |
сила осцилятора для А-полосы F-центра |
количество F-центров в см3 |
Облученный и прогретый кристалл.
Построение линейных анаморфоз для F –центров.
(Н-Нmax)2, эВ |
(Аmax/A)-1 |
Ln(Amax/A) |
0 |
0 |
0 |
0,00096 |
0,116 |
0,11 |
0,003847 |
0,412 |
0,345 |
0,008656 |
1,182 |
0,78 |
0,015 |
3 |
1,386 |
0,024 |
8,6 |
2,262 |
0,035 |
23 |
3,178 |
Распределение по Гауссу.
|
|
показатель приломления |
|
толщина кристалл в см |
|
|
коэффициент поглощения в максимуме полосы поглощения, см-1 |
|
|
ширина полосы поглощения на половине высоты, эВ |
|
сила осцилятора для А-полосы In2-0 |
|
|
количество In2-0 в см3 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.