В n-области появившиеся избыточные неосновные носители
зарядов – дырки ∆p создадут в первый момент вблизи контакта
положительный объемный заряд. Однако через очень короткое время этот заряд
будет скомпенсирован объемным зарядом основных носителей - электронов, которые
под действием электрического поля, созданного избыточными дырками, будут
подтянуты в количестве ∆n из глубины n-области, а
в n-область электроны поступят из внешней цепи. Таким
образом, во всех частях электронного полупроводника будет соблюдаться
электронейтральность, но в приконтактной к p-n
переходу области концентрация электронов и дырок будет повышена на ∆n
= ∆p по сравнению с равновесным состоянием. Введение в
полупроводник носителей заряда с помощью p-n
перехода при подаче на него прямого смещения в область, где эти носители заряда
являются неосновными, называют инжекцией. Теперь концентрация дырок в n-области
вблизи контакта равна p = pn
+ px. В стационарном случае при x
= и отсутствии вырождения носителей заряда концентрация избыточных дырок
в n-области определяется выражением
,
(1.1),
концентрация
избыточных электронов в p-области при x=
. (1.2).
Из (1.1) и (1.2) следует, что с увеличением прямого смещения на p-n переходе концентрация инжектируемых неосновных носителей заряда резко возрастает, что приводит к сильному росту тока через контакт в прямом направлении.
Если к p-n переходу приложено обратное смещение (рис.1.5), p-область заряжена отрицательно, потенциальный барьер повышается на величину eU и увеличивается толщина запорного слоя объемного заряда,
Чем сильнее смещен переход в обратном направлении (U),
тем меньшее количество основных носителей заряда способно преодолеть возросший
потенциальный барьер. В соответствии с этим количество неосновных носителей
заряда в приконтактной области уменьшается по сравнению с равновесным
состоянием, следовательно, уменьшается и количество основных носителей заряда
вследствие соблюдения электронейтраль-ности. Это явление называется
экстракцией носителей заряда. Избыточная концентрация электронов в p-области
по-прежнему определяется выражением (1.2), по величину напряжения U
следует брать с «минусом». Таким образом, при обратном смещении p-n
перехода ток основных носителей заряда будет меньше, чем при равновесном
состоянии, а ток неосновных носителей практически не изменится. Поэтому
суммарный ток через p-n переход будет направлен от n
к p-области, и с увеличением обратного напряжения будет
сначала незначительно расти, а затем стремится к величине, называемой током
насыщения Is. Bольт-амперная характеристика нелинейная (рис.1.6).
1.2. Контакт вырожденных электронных и дырочных полупроводников.Туннельный диод
В очень сильных электрических полях становится возможным механизм образования
свободных носителей заряда, называемый туннельным эффектом или эффектом Зинера.
Как известно, у полупроводника, находящегося во внешнем электрическом поле с
напряженностью , имеет наклон
энергетических зон (рис.1.7). Наклон зон тем больше, чем больше
напряженность электрического поля
. На рис.1.7
представлена зонная структура собственного полупроводника при наличии сильного
электрического поля. В этом случае возможен переход электрона из валентной зоны
в зону проводимости благодаря туннельному эффекту. Вероятность туннельного
перехода зависит от высоты и ширины потенциального барьера. В данном случае
высота потенциального барьера АБ представляет собой шину запрещенной
зоны
.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.