ГУАП
КАФЕДРА № 53
ОТЧЕТ
ЗАЩИЩЕН С ОЦЕНКОЙ
ПРЕПОДАВАТЕЛЬ
проф., д.т.н. |
Зиатдинов С.И. |
|||
должность, уч. степень, звание |
подпись, дата |
инициалы, фамилия |
ОТЧЕТ О ЛАБОРАТОРНОЙ РАБОТЕ |
|||||
Исследование полупроводникового биполярного транзистора |
|||||
по курсу:ЭЛЕКТРОНИКА |
|||||
РАБОТУ ВЫПОЛНИЛА
СТУДЕНТКА ГР. |
Санкт-Петербург
2010
Цель работы
Изучение и практическое исследование работы и характеристик полупроводникового биполярного транзистора.
Схема экспериментальной установки
Рис.1.Схема исследования входной ВАХ
Рис.2.Схема исследования выходной ВАХ
Результаты эксперимента
Таблица 1.
Uкэ=10 В |
Uбэ, В |
0,1 |
0,2 |
0,3 |
0,4 |
0,5 |
0,6 |
0,7 |
0,8 |
0,9 |
1 |
1,1 |
1,2 |
1,3 |
1,4 |
1,5 |
Iб, мА |
0,1 |
0,2 |
0,27 |
2 |
3 |
4 |
8 |
9 |
11 |
17 |
27 |
32 |
36 |
43 |
57 |
Таблица 2.
Uкэ=50 В |
UБэ, В |
0,1 |
0,2 |
0,3 |
0,4 |
0,5 |
0,6 |
0,7 |
0,8 |
0,9 |
1 |
1,1 |
1,2 |
1,3 |
1,4 |
1,5 |
Iб, мА |
0,1 |
0,2 |
0,27 |
2 |
3 |
4 |
8 |
9 |
12 |
17 |
22 |
26 |
28 |
34 |
36 |
Таблица 3.
IБ = 6 мА |
UБ = 600 В |
0,05 |
0,1 |
0,2 |
0,5 |
1 |
2 |
4 |
6 |
8 |
10 |
1,8 |
10,8 |
30,8 |
56 |
58 |
64 |
67 |
89 |
92 |
114 |
Таблица 4.
IБ = 12 мА |
UБ = 1200 В |
0,05 |
0,1 |
0,2 |
0,5 |
1 |
2 |
4 |
6 |
8 |
10 |
5 |
24 |
68 |
181 |
204 |
210 |
212 |
227 |
258 |
270 |
Выводы
Полупроводниковый биполярный транзистор – это электронное устройство, работа которого основана на двух взаимодействующих p-n-переходах.
Входная Вольт-Амперная характеристика (ВАХ) транзистора – это зависимость тока базы от напряжения между эмиттером и базой при постоянном напряжении Uкэ. В лабораторной работе мы исследовали эту зависимость при Uкэ=10 В и Uкэ=50 В. Получившиеся ВАХ представлены на рис. 3. По рисунку видно, что при увеличении Uкэ ток базы будет уменьшаться. Это связано с тем, что при увеличении напряжения Uкэ меньше дырок рекомбинируют с электронами в базе, и они в большом количестве поступают из базы в коллектор.
Выходная ВАХ биполярного транзистора – это зависимость тока коллектора от напряжения между эмиттером и коллектором при постоянном токе базы. Мы исследовали ВАХ при IБ = 6 мА и IБ = 12 мА. Они представлены на рис. 4. При малых значениях Uкэ наблюдается резкий рост тока IБ, так как дырки из цепи эмиттера в большом количестве инжектируются в область базы и даже при небольшом напряжении между эмиттером и коллектором поступают из цепи базы в цепь коллектора. Однако при Uкэ≥ Uкэ min практически все дырки, поступившие из цепи эмиттера в базу, переходят в коллектор, и дальнейшего роста тока коллектора почти не происходит.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.