5.Полная длина резистора равна: lполн=lрасч+2L=951+200=1151 мкм
6.Площадь резистора равна: S=lполнb=1,151*0.317=0.365 мм²
R8=100 кОм
1.Вычисляем коэффициент формы Кф=R/ρ0=100000/6000=16,67
2.Определяем расчетную ширину резистора:
bточн=(∆b+∆l/Кф)/γкфдоп=(10+10/16,67)/0.042=252 мкм
bp=Pρ0/P0R=0.02*6000/200*100000=6 мкм
3.Выбираем максимальную ширину резистора:
b=252 мкм
4.Расчетная длина резистора равна: lрасч=bКф=4201 мкм
5.Полная длина резистора равна: lполн=lрасч+2L=4201+400=4601 мкм
6.Площадь резистора равна: S=lполнb=4,601*0.252=1,159 мм²
R10= R11=150 кОм
1.Вычисляем коэффициент формы Кф=R/ρ0=150000/6000=25
2.Определяем расчетную ширину резистора:
bточн=(∆b+∆l/Кф)/γкфдоп=(10+10/25)/0.042=248 мкм
bp=Pρ0/P0R=0.02*6000/200*150000=4 мкм
3.Выбираем максимальную ширину резистора:
b=248 мкм
4.Расчетная длина резистора равна: lрасч=bКф=6200 мкм
5.Полная длина резистора равна: lполн=lрасч+2L=6200+400=6600 мкм
6.Площадь резистора равна: S=lполнb=6,6*0.248=1,637 мм²
2.Расчет тонкопленочных конденсаторов
К материалу обкладок пленочного конденсатора предъявляются требования: высокая электропроводность, обеспечивающая малые потери энергии, хорошая адгезия, малая миграционная подвижность атомов. Диэлектрик, применяемый в тонкопленочных конденсаторах, должен обладать малыми диэлектрическими потерями, высокой электрической прочностью, хорошей адгезией к подложке и обкладкам, малым ТКЕ., стабильностью физических параметров в диапазоне рабочих температур, высокой диэлектрической проницаемостью.
Исходные данные для расчета конденсаторов приведены в таблице 2.
Таблица 2.
Схемное обозначение |
Номинал С, пФ |
Относ. погр-ть номинала, γс |
Максим, рабочее напряжение U,В |
Максим. раб. темп. tmax,0C |
Предельная длител. работы, ч |
Относит. погр-ть уд. емкости, γс0 |
Абс. погр-ть геом.пар-в ∆l,∆b,м |
С1 |
1000 |
0,2 |
3 |
80 |
10000 |
0,05 |
10^-5 |
С2 |
6800 |
||||||
С3 |
2200 |
Выбираем материал диэлектрика – монооксид кремния, материал обкладок – алюминий. Монооксид кремния имеет следующие параметры:
- диэлектрическая проницаемость на частоте 1 кГц ε=5;
- тангенс угла диэлектрических потерь на частоте 1 кГц tgδ=0.01;
- электрическая прочность Е=2*10^6 В/см;
- ТКЕ=2*10^-4 Гр^-1
1.Найдем минимальную толщину диэлектрика d и удельную емкость С0U для обеспечения необходимой электрической прочности:
d=UрКз/Е=3*2/2*10^6=0,03 мкм
Величина d должна быть равна 0,1<d<1, поэтому выбираем d=0,5 мкм
С0U= ε0*ε/d=0,0885*10^(-12)*5/0.5*10^(-4)=8,85 нФ/см²
2.Определим γсt ,γs и С0точн:
γсt=2*10^-4(80-20)=0,012
γs=γс -γс0 - γсст – γсt=0,2-0,05-0,02-0,012=0,118
С0точн=4С(γs/∆l)²=4*10^(-9)(0.118/10^(-3))²=56 мкФ/см²
3.Таким образом, выбирая наименьшую удельную емкость, получаем: С0=8,85 нФ/см²
4.Нйдем пощади верхних обкладок конденсаторов:
для С1=1000 пФ: Sв1=C/C0=10^-9/8,85=0,11 см²=11 мм²
для С2=6800 пФ: Sв2=C/C0=6,8*10^-9/8,85=74,8 мм²
для С1=2200 пФ: Sв3=C/C0=2,2*10^-9/8,85=24,2 мм²
5.Размеры верхних обкладок равны:
Lв1=(Sв1)^0.5=3,32 мм
Lв2=(Sв2)^0.5=8,65 мм
Lв3=(Sв3)^0.5=4,92 мм
6.Размеры нижних обкладок равны:
Lн1=Lв1+2q=3,32+0.2=3.52 мм
Lн2=Lв2+2q=8,65 +0.2=8,85 мм
Lн3=Lв3+2q=4,92 +0.2=5,12 мм
7.Размеры диэлектрика равны:
Lд1=Lн1+2f=3.52+0.4=3.92 мм
Lд2=Lн2+2f=8,85+0.4=9,25 мм
Lд3=Lн3+2f=5,12+0.4=5,52 мм
8.Площади конденсаторов равны:
Sд1= Lд1²=(3.92)²=15,37 мм²
Sд2= Lд2²=(9,25)²=85,56 мм²
Sд3= Lд3²=(5,52)²=30,47 мм²
Результаты расчетов представлены в таблице 3.
Схемное обознач. |
Номинал. С,пФ |
Материал диэлектрика |
Материал обкладок |
Lв,мм |
Sв, мм² |
Lн,мм |
Lд,мм |
Sд, мм² |
С1 |
1000 |
Монооксид кремния |
Аоюминий |
3,32 |
11 |
3,52 |
3,92 |
15,37 |
С2 |
6800 |
8,65 |
74,8 |
8,85 |
9,25 |
85,56 |
||
С3 |
2200 |
4,92 |
24,2 |
5,12 |
5,52 |
30,47 |
3.Расчет площади подложки микросхемы
Площадь подложки проектируемой ГИС вычисляется по формуле:
Sп=Кз(SΣR + SΣC + SΣНЭ + nSкп)
Кз – коэффициент использования площади подложки (2-3);
SΣR – суммарная площадь всех тонкопленочных резисторов;
SΣC - суммарная площадь всех тонкопленочных конденсаторов;
SΣНЭ – суммарная площадь всех навесных элементов;
Sкп – площадь одной контактной площадки;
n – количество контактных площадок.
SΣR=0,251+0,959+0,32+0,317+0,81+0,556+0,365+1,159+2*1,637=8,011
SΣC=15,37+85,86+30,47=131,4
Sтр=1,69
SΣНЭ=3*1,69=5,07
Sп=3(8+131,4+5,07)=433,41
Исходя из найденной площади, выбираем стандартный типоразмер подложки:
20х24(480 мм²)
Список литературы
1. В.И. Томилин, С.М. Феньков. Конструирование и технология микросхем. Методические указания по курсовому проектированию тонкопленочных гибридных интегральных схем для студентов всех форм обучения. – Красноярск: Изд. КПИ, 1983. – 51 с.
2. Конструирование и технология микросхем. Курсовое проектирование: Учеб. пособие для вузов / Коледов Л.А., Волков В.А., Докучаев Н.И. и др.; Под ред. Л.А. Коледова. – М.: Высш. шк., 1984. 231 с., ил.
3. Николаев И.М., Филинюк Н.А. Интегральные микросхемы и основы их проектирования: Учебник для техникумов. – 2-е изд., перераб. и доп. – М.: Радио и связь, 1992. – 424 с., ил.
4. Курносов А.И., Юдин В.В. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем: Учеб. пособие для вузов. – 3-е изд., перераб. и доп. – М.: Высш. шк., 1986. – 386 с., ил.
5. Разработка и оформление конструкторской документации радиоэлектронной аппаратуры: Справочник / Э.Т. Романычева, А.К. Иванова, А.С. Куликов и др.; Под ред. Э.Т. Романычевой. – 2-е изд., перераб. и доп. – М.: Радио и связь, 1989. – 448 с., ил.
Уважаемый посетитель!
Чтобы распечатать файл, скачайте его (в формате Word).
Ссылка на скачивание - внизу страницы.