Параметры полупроводниковых резисторов. Коэффициент паразитной емкости резисторов. Структуры интегральных полупроводниковых резисторов

Страницы работы

Уважаемые коллеги! Предлагаем вам разработку программного обеспечения под ключ.

Опытные программисты сделают для вас мобильное приложение, нейронную сеть, систему искусственного интеллекта, SaaS-сервис, производственную систему, внедрят или разработают ERP/CRM, запустят стартап.

Сферы - промышленность, ритейл, производственные компании, стартапы, финансы и другие направления.

Языки программирования: Java, PHP, Ruby, C++, .NET, Python, Go, Kotlin, Swift, React Native, Flutter и многие другие.

Всегда на связи. Соблюдаем сроки. Предложим адекватную конкурентную цену.

Заходите к нам на сайт и пишите, с удовольствием вам во всем поможем.

Фрагмент текста работы

Поскольку примесь в полученном диффузией резистивном слое распределена неравномерно, расчет удельного объемного сопротивления материала слоя трудоемок. Поэтому целесообразно пользоваться номограммами, представленными на рис. 7.2 и 7.3.

Номограммы позволяют найти усредненную удельную объемную проводимость ρ резистивного слоя в зависимости от поверхностной концентрации примесей Ns, концентрации примесей в исходном материале (эпитаксиальном слое) Noи отношения текущей координатыхp-n-перехода, если он имеется, ограничивающего резистивный слой сверху к глубине р-п- перехода хj, ограничивающего резистивный слой снизу. Например, для резистора, изображенного на рис. 7.1, а, это отношение x/xj= 0, поскольку резистивный слой начинается непосредственно на поверхности кристалла.

Таким образом, удельное сопротивление квадрата резистивного слоя

где dРЕЗ =xj - x— толщина резистивного слоя.

7.9. Полупроводниковые резисторы

Первоначально в полупроводниковых ИС применялись только диффузионные резисторы (ДР), основу которых составлял один из диффузионных слоев, расположенных в изолированном кармане. В настоящее время большое распространение получили также ионно-имплантированные резисторы.

Диффузионные резисторы. Для диффузионных резисторов чаще всего используется полоска базового слоя с двумя омическими контактами (рис. 7.35, а). Для такой полосковой конфигурации сопротивление ДР согласно (7.1) записывается в виде

гдеRs удельное сопротивление слоя(см. с. 229-230), а размеры а и b показаны на рис. 7.35.

Идлина, и ширина полоскового ДР ограничены. Длина ане может превышать размеров кристалла. Ширина bограничена возможностями фотолитографии, боковой диффузией, а также допустимым разбросом (10-20%).

Подставляя в (7.5а) значения RS= 200Ом/ٱ и а/b= 100, получаем типичное значение максимального сопротивления R=20 кОм. Это значение можно повысить в 2-3 раза, используя не полосковую, а зигзагообразную конфигурацию ДР (рис. 7.35, б). В этом случае сопротивление записывается в более общем виде

Здесь п — количество «петель» (на рис. 7.35, б п - 2), а слагаемое 1,3 учитывает неоднородность ДР в районе омических контактов.

Количество «петель» в конечном счете ограничено площадью, отводимой под ДР. Обычно п < 3, в противном случае площадь резистора может достигать 15-20 % площади всего кристалла. Максимальное сопротивление при п = 3 не превышает 50-60 кОм.

Температурный коэффициент сопротивления ДР, выполненного на основе базового слоя, составляет 0,15-0,30 %/°С, в зависимости от значения Rs. Разброс сопротивлений относительно расчетного номинала составляет ± (15-20) %. При этом сопротивления резисторов, расположенных на одном кристалле, меняются в одну и ту же сторону. Поэтому отношение сопротивлений сохраняется с гораздо меньшим допуском (± 3 % и менее), а температурный коэффициент для отношения сопротивлений не превышает ± 0,01 %/°С. Эта особенность ДР играет важную роль и широко используется при разработке ИС.

Если необходимые номиналы сопротивлений превышают 50-60 кОм, можно использовать так называемые пинч-резисторы. Структура пинч-резистора показана на рис. 7.36. По сравнению с простейшим ДР пинч-резистор имеет меньшую площадь сечения и большее удельное сопротивление (так как используется донная, т.е. слабо легированная часть р-слоя). Поэтому у пинч-резисторов удельное сопротивление слоя обычно составляет 2-5 кОм/ٱ и более, в зависимости от толщины. При таком значении Rsмаксимальное сопротивление может достигать значений 200-300 кОм даже при простейшей полосковой конфигурации. Недостатками пинч-резисторов являются: больший разброс номиналов (до 50 %) из-за сильного влияния изменения толщины       р-слоя, больший температурный коэффициент сопротивления (0,3-0,5 %/°С) из-за меньшей степени легирования донной части р-слоя, нелинейность вольт-амперной характеристики при напряжениях более 1-1,5 В. Последняя особенность вытекает из аналогии между структурами пинч-резистора и полевого транзистора (см. рис. 7.26, б). ВАХ пинч-резистора совпадает с ВАХ полевого транзистора (рис. 4.14, о), если напряжение на затворе последнего положить равным нулю

Похожие материалы

Информация о работе

Уважаемые коллеги! Предлагаем вам разработку программного обеспечения под ключ.

Опытные программисты сделают для вас мобильное приложение, нейронную сеть, систему искусственного интеллекта, SaaS-сервис, производственную систему, внедрят или разработают ERP/CRM, запустят стартап.

Сферы - промышленность, ритейл, производственные компании, стартапы, финансы и другие направления.

Языки программирования: Java, PHP, Ruby, C++, .NET, Python, Go, Kotlin, Swift, React Native, Flutter и многие другие.

Всегда на связи. Соблюдаем сроки. Предложим адекватную конкурентную цену.

Заходите к нам на сайт и пишите, с удовольствием вам во всем поможем.