Контактная и проекционная литография

Страницы работы

Фрагмент текста работы

длин волн глубокого ультрафиолета 0,01— 0,1 мкм практически никаких исследований процесса тене­вой передачи изображения не проводилось. Из-за большого поглощения излучения в этом диапазоне длин волн создать шаблоны с прозрачными подложками невозможно —· прозрачных материалов нет. Единственной альтернативой остаются трафаретные шаблоны с субмикронными отвер­стиями. Исследуются различные методы изготовления субмикронных трафаретных шаблонов: методы с использованием анизотропного травления кремниевых или полимерных мембран. При этом используются маски, созданные пред­варительно методом электронно-лучевой литографии. По технологии эти методы близки к методам создания рентге­новских шаблонов.

Активно используются методоы тене­вой литографии с зазором в диапазоне длин волн мягкого рентгеновского излучения: λ=0,1 -10 нм. Коэф­фициент поглощения излучения в рентгеновском диапазоне сильно зависит от атомного номера вещества Ζ и частоты излучения. Такое соотношение показы­вает, что для работы на заданной частоте в качестве подложек рентгеношаблонов могут быть выбраны мембраны из материалов с малым Ζ. Действительно, органические поли­меры (Zэфф»5) и бериллий (Ζ=4) оказываются достаточно прозрачными для длин волн менее 1 нм при толщине до 10 мкм, а материалы с относительно малыми Ζ (кремний, окись кремния, нитрид кремния) могут считаться прозрач­ными при толщине менее 1 мкм.

Малая толщина слоя является необходимым условием создания субмикронного рисунка в поглощающем слое рентгеношаблона (методами электронно-лучевой литогра­фии). В качестве поглощающего покрытия в рентгеношаблонах используется исключительно золото (Ζ=79) вследствие технологичности этого материала при изготовлении и кор­розионной стойкости при эксплуатации шаблона.

Первичным процессом при поглощении атомами мишени фотона мягкого рентгеновского излучения (энергии фотонов E(эВ) = 1240/l(нм)=250— 2500 эВ) является процесс фотоионизации атома. В результате фотоионизации из оболочки атома вылетает фотоэлектрон с энергией порядка 1 кэВ. Вакантное состояние в атоме, возник­шее в результате фотоионизации, быстро заполняется путем перехода электронов с внешних оболочек. При этом испус­кается или квант характеристического рентгеновского из­лучения (вероятность этого процесса возрастает с частотой излучаемого кванта как ω2, поэтому испускание квантов является наиболее вероятным процессом при излучении высокоэнергетичных квантов в тяжелых атомах), или элект­рон. Процесс заполнения вакансии в атомной оболочке электроном с внешней оболочки атома носит название оже-процесса, причем освобождающуюся энергию уносит второй

Похожие материалы

Информация о работе