Физика \ Физико-химические основы технологии электронных средств

Определение параметров лимитирующих стадий химической реакции осаждения эпитаксиальных плёнок кремния, страница 4

4.3. Заключение.

5. Контрольные вопросы

1. Методика статистического моделирования технологического процесса. Возможности программы.

2. Понятие случайных и систематических погрешностей (примеры из работы)

3. Термодинамические и газодинамические характеристики системы при осаждении плёнок из газовой фазы (T,Q, линейная скорость газового потока- V_л).

4. Что такое линейная и объемная скорость газового потока, какая дает более объективное преставление о газодинамических характеристиках системы?

5. Механизм протекания химической реакции при осаждении плёнок из газовой фазы. Лимитирующие стадии процесса.

6. Как скорость химической реакции на поверхности зависит от температуры?

7. Почему диффузионная скорость увеличивается при увеличении скорости газового потока?

8. Диффузионная и кинетическая области протекания реакции. Экспериментальная оценка параметров диффузионной и кинетической областей.

Варианты заданий

Параметр	№№ вариантов
Параметр	1	2	3	4	5	6	7	8	9	10
Т эпитаксии, ^оС	1170±60	1130±50	1200±60	1220±70	1180±60	1150±50	1120±50	1230±70	1250±75	1190±60
Т реактора, ^оС	100±50	100± 50	400±100	500±150	100±50	100±50	350±100	100±50	100±50	400±100
Т испарителя, ^оС	20±5	21±5	25±5	26±5	28±5	22±5	24±5	27±5	30±5	25±5
Общий расход Q, л/час	2000±200	1500 ±150	2100±±220	3000 ±300	2500 ±250	3200±350	3500±350	2500±250	1800±200	2200±200
Давление на входе Р, мм.рт.ст.	1100±100	1200±100	1350±120	1300±120	1500±150	1200±100	1300±150	1250±120	1150±100	1400±150
Т газа на входе в реактор, ^оС	25±5	30±5	30±5	25±5	25±5	25±5	30±5	25±5	30±5	30±5
R реактора, см	13± 0,8	14± 0,8	12± 0,8	12± 0,8	18± 1,0	17± 1,0	12± 0,8	20± 1,1	14± 0,8	18± 1,0
R подставки, см	10± 0,8	11± 0,8	8,5± 0,8	9± 0,8	16± 1	15± 1	8,5± 0,8	18± 1,1	11± 0,8	16± 1
Диаметр пластин, мм	76	76	76	76	100	100	60	100	76	100
Относительная концентрация, %	1	1,5	0,8	0,5	0,6	0,5	0,5	1	1	0,8
Толщина плёнки, мкм	8	9	10	8	8	10	7	9	9	10
Допуск на толщину, мкм	1	1	1	1	1	1	1	1	1	1

Примечание

Задавать разброс по расходу водорода через испаритель ± 20 %;

по времени- ± 5 мин;

для температуры эпитаксии, общего расхода и расхода через испаритель и радиусов подставки и реактора установить равномерный закон распределения , для остальных параметров - нормальный.

1 2 3 4

Скачать файл