Исследование технологического процесса эпитаксиального выращивания кремниевых пленок. Технологические расчёты для процесса эпитаксии, страница 4

3.2. Порядок выполнения работы.

3.2.1. Расчёты по приготовлению лигатур (путём последующих разбавлений) и рабочего раствора с заданной концентрацией примеси (разделы 2.5.1).

            а) Рассчитать количество разбавлений (лигатура 1, 2, 3 и т. д.).

            б) Рассчитать количество последней лигатуры, используемой для приготовления рабочего раствора.

            в) Дополнительные данные:

                       - коэффициент вхождения примесей [4]: ;

            - объём чистого SiCl4, используемый для приготовления лигатуры (примечание: количественные значения могут быть изменены преподавателем):  = 100 мл;

- объём легирующего вещества и лигатуры для последующего разбавления (примечание: количественные значения могут быть изменены преподавателем): ;

                       - объём рабочей жидкости   = 5000 мл;

- в качестве легирующих добавок для получения плёнок n-типа используется ,  p-типа - .

            Рекомендуемое количество последней лигатуры для приготовления рабочего раствора: 2…10 мл. Если расчёты показывают, что для приготовления рабочего раствора требуется использовать, к примеру, 20…100 мл последней лигатуры, то следует сделать её более концентрированной, взяв для приготовления не 2 мл предыдущей, а 20 – тогда концентрация в последней лигатуре повысится в 10 раз и брать её надо будет соответственно в 10 раз меньше, т. е. как раз 2…10 мл.

Таблица 3.1

Варианты заданий

п/п

Годо-вая

прог-рамма,

тыс. шт.

Процент

выхода

годных

(загрузка

разовая),

шт.

Тиспар.,

оC

Расход

H2 через

основ-ную

ма-гист-раль, л/ч

Расход

H2 через

испари-тель, л/ч

Дли-тель-

ность

про-цесса роста

плен-ки,

мин

Длитель-ность

продувки

испари-теля

перед

процес-сом

Длитель-

ность

продув-ки

водор-одом

в процессе

Темпе-ратура

эпи-таксии,

°С

Tем-пе-ра-тура

реак-

тора,

°С

,

(тип проводимос-ти)

±1°

±100

±3

±0,5

мин

мин

±30

±30

1

100

60 (15)

27

1500

15

20

5

35

1200

100

1   (n)

2

250

70 (20)

27

2500

20

15

5

30

1200

80

0,5 (p)

3

50

60 (20)

30

2500

30

10

5

30

1220

100

5   (n)

4

125

65 (30)

30

3000

15

10

5

30

1200

100

2,0 (n)

5

100

60 (20)

30

2000

20

12

5

35

1100

80

0,5 (p)

6

75

60 (30)

30

2000

25

12

5

35

1150

80

5,0 (p)

7

200

70 (30)

25

3500

30

15

5

35

1150

100

2   (n)

8

50

60 (20)

25

1500

35

12

5

25

1150

85

5   (p)

9

50

65 (30)

20

1500

20

12

5

30

1250

120

0,5 (n)

10000

75

60 (40)

20

2500

25

14

5

40

1250

100

1,5 (n)

11

125

70 (40)

20

2800

30

14

5

35

1250

80

2   (p)

12

125

75 (40)

25

3000

30

14

5

35

1200

125

3   (p)

13

200

60 (40)

25

3500

35

15

5

40

1200

100

1,2 (n)

п/п

Годо-вая

прог-рамма,

тыс. шт.

Процент

выхода

годных

(загрузка

разовая),

шт.

Тиспар.,

оC

Расход

H2 через

основ-ную

ма-гист-раль, л/ч

Расход

H2 через

испари-тель, л/ч

Дли-тель-

ность

про-цесса роста

плен-ки,

мин

Длитель-ность

продувки

испари-теля

перед

процесс-сом

Длитель-

ность

продув-ки

водор-одом

в процессе

Темпе-ратура

эпи-таксии,

°С

Tем-пе-ра-тура

реак-

тора,

°С

,

(тип проводимос-ти)

±1°

±100

±3

±0,5

мин

мин

±30

±30

14

250

80 (40)

300

4000

40

15

5

45

1170

125

0,8 (n)

15

300

70 (20)

30

4500

45

15

5

45

1170

100

0,6 (n)

16

250

60 (30)

35

3600

40

15

5

40

1180

100

0,5 (n)

17

150

65 (12)

35

3500

35

15

5

40

1180О

85

1,2 (n)

18

100

60 (20)

30

2000

30

15

5

30

1150

85

1,0 (p)

19

25

65 (30)

22

3000

40

20

5

30

1150

85

1,0 (n)

20

40

65 (20)

22

1500

20

20

5

30

1150

100

2,5 (p)

21

90

60 (20)

.22

2000

30

20

5

30

1200

100

5   (n)

22

100

70 (15)

27

2500

300

20

5

35

1200

150

4   (p)

23

100

70 (20)

27

1500

200

20

5

30

1180

150

4   (n)

24

200

75 (30)

27

3500

450

15

5

35

1180

150

10  (n)

25

250

60 (20)

27

3000

350

12

5

35

1180

100

10  (n)