Поверхность полупроводника, Поверхностные и контактные явления, страница 5

              8.7

Очень часто используемые на практика p-n переходы являются сильно несимметричными

Рисунок 8.4. Энергетическая диаграмма симметричного p-n перехода.

Рисунок 8.5. Распределение объемного заряда и поля в случае почти симметричного (слева) и сильно несимметричного (справа) p-n перехода.

Рассмотрим случай, когда p-область сильно легирована, а n область легирована гораздо слабее. Скажем пусть это высоковольтный кремниевый диод с Nd=1013 см-3, а Na=1018 см-3. Тогда, как видно из сравнения площади треугольников на правой части рисунка 8.5 (а это и есть падение напряжения), все напряжение барьера падает на n-области. Тогда:

 

Вольт-амперные характеристики p-n переходов.

Чтобы найти вольт-амперные характеристики p-n переходов нужно провести рассуждения сходные с тем, что мы проводили, когда обсуждали вольт-амперные характеристики диода Шоттки. При обратном смещении, основная часть прикладываемого напряжения падает на наиболее высокоомных областях – областях обеднения. Это приводит к увеличению барьера и уменьшению тока электронов из n-области в p-область и дырок из p-области в n-область. Аналогично ситуации с диодом Шоттки, при смене полярности подаваемого напряжения (прямое смещение) величина барьера уменьшается, и ток экспоненциально растет:  Конечно, когда подаваемое напряжение практически спрямит барьер, ток будет определяться просто сопротивлением высокоомного полупроводника (в нашем случае это полупроводник n-типа), и, достигнет насыщения. Таким образом, p-n переход является диодом и может использоваться для выпрямления переменного тока.

Оценим плотность диффузионного тока (который если нет подаваемого напряжения точно уравновешивается полевым током). Из уравнения диффузии:

, где D – коэффициент диффузии, связанный с подвижностью m соотношением Эйнштейна . В среднем, градиент концентрации для электронов равен: . В нашем случае неистощенной примеси, концентрация электронов в полупроводнике n-типа далеко в глубине от ОПЗ n0n пусть <Nd и равна 1-2 на 1012 см-3. Тогда размер ОПЗ примерно 12 микрон, а градиент концентрации для электронов примерно 1015 см-4. Коэффициенты диффузии для электронов и для дырок в кремнии составляют соответственно 34 и 13 см2/c. То есть диффузионный ток электронов составляет примерно 5 миллиампер на квадратный сантиметр. При этом, в нашем сильно несимметричном переходе, градиент концентрации для дырок гораздо больше, и диффузионный ток дырок на несколько порядков больше. Отметить, что чем больше уровень легирования, тем больше градиент концентрации (причем зависимость сверхлинейная, так как уменьшается еще и размер ОПЗ), так что при больших, но разумных уровнях легирования плотность диффузионного тока может достигать миллионов ампер на квадратный сантиметр.

Грубо оценим электронную компоненту тока насыщения js. Электрон, находящийся в  p-области имеет шанс достичь ОПЗ, если он расположен не левее длины диффузии Ln. Попав в область ОПЗ он ускоряется полем барьера и выбрасывается в n-область. Оценим, сколько электронов в единицу времени из p-области способны достичь ОПЗ единичного сечения. Количество таких электронов в единице сечения грубо равно их концентрации n0p на длину диффузии. Время, которое им требуется, чтобы достичь ОПЗ это есть время, которое им требуется, чтобы пройти диффузионную длину (и затем либо достичь ОПЗ либо рекомбинировать) – то есть это фактически время жизни неосновных носителей (электронов в p-области). Тогда . Если вспомнить соотношение np=nipi, и с учетом того, что:

                       8.8

Так, для кремниевого диода при комнатной температуре, если время жизни составляет 1 микросекунду, а концентрация дырок в p-области равна 1016 см-3, плотность тока насыщения составляет 10-11 A/см2. Но даже этот очень маленький ток скомпенсирован (если к p-n переходу не приложено напряжение) током «горячих» электронов из n-области, способных преодолеть барьер. Обратное напряжение увеличивает величину барьера, и ток электронов из n-области уже не может компенсировать ток электронов из p-области, что и приводит к экспоненциальной зависимости в вольт-амперной характеристике. Обратим внимание, что обратный ток сильно зависит от температуры, так как ni зависит от температуры экспоненциально. Это ограничивает применение узкозонных  полупроводников. Существуют диоды на основе широкозонных полупроводников (например карбида кремния) способные работать при температуре 600 0С.